[发明专利]对经颅超声畸变的基于对侧阵列的校正无效
申请号: | 201080038816.3 | 申请日: | 2010-08-25 |
公开(公告)号: | CN102576527A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | W·T·史;F·G·G·M·维尼翁;J·E·鲍尔斯;B·S·鲁滨逊;M·R·伯切;V·沙姆达莎尼 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G10K11/34 | 分类号: | G10K11/34;G01S15/89;G01S7/52;A61B8/13 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超声 畸变 基于 阵列 校正 | ||
1.一种设备,包括:
二维换能器阵列(104、108),其被配置成接收已穿过不均匀介质(168)的透射超声(164),所述设备被配置成在所接收的超声上执行畸变估计,使得所述估计的结果能够用于改进超声操作。
2.根据权利要求1所述的设备,其被配置成基于所述结果来修改所述设备的设置(220),从而实现如下中的至少一项:a)改进超声发射和超声接收中的至少一个的定位;以及b)校正(512、528)超声的射束形成。
3.根据权利要求2所述的设备,其中,为了改进的所述修改(220、224)是基于声学窗口的所选择的位置和所选择的范围中的至少一个。
4.根据权利要求2所述的设备,所述结果包括至少一个畸变图,对于所述畸变图,高程(414)和方位(413)两者是自变量,所述修改是基于所述至少一个图中的一个或多个的。
5.根据权利要求1所述的设备,所述结果包括多个畸变图(402、404、406),所述畸变图具有空间自变量,信号时间延迟、信号幅度和信号失真中的至少两个是所述图中的相应图的因变量。
6.根据权利要求1所述的设备,所述结果包括信号幅度图和信号失真图中的至少一个,所述设备被配置成利用所述图中的至少一个作为加权图来调节个体换能器元件或者个体缀片对射束形成的贡献(540)。
7.根据权利要求1所述的设备,其还包括对侧换能器阵列,并且被配置成从单个超声发射脉冲(740)从两侧接收射束形成。
8.根据权利要求7所述的设备,其还被配置成将由所述射束形成在两侧(104、108)采集的图像进行组合。
9.根据权利要求7所述的设备,所述透射超声从所述对侧阵列发出,配置所述设备,使得所述射束形成考虑分别基于所述畸变估计以及对对侧接收的透射超声的畸变估计(402、404、406)两者的接收畸变校正。
10.根据权利要求1所述的设备,所述设备被配置成从在对侧换能器阵列上分布的点源(160)发射所述透射超声,点源是缀片或换能器元件,并且所述设备被配置成基于所执行的畸变估计来选择声学窗口。
11.根据权利要求1所述的设备,还包括阵列放置调整器(124),其被配置成将所述二维阵列和对侧阵列中的至少一个平移小于待平移的阵列的缀片的尺寸。
12.根据权利要求1所述的设备,还包括用于与所述换能器阵列对侧地放置的所述透射超声的源(116)。
13.根据权利要求12所述的设备,所述源包括缀片(300),所述缀片(300)的输入分别被初始射束形成,对于所述执行,所述缀片作为相对于所述阵列的点源。
14.根据权利要求12所述的设备,所述源包括对侧阵列,所述设备被配置成从所述对侧阵列将射束聚焦在颞骨的外表面(610)上,对于所述执行,焦点作为相对于所述换能器阵列的点源。
15.根据权利要求1所述的设备,所述穿过是通过所述介质的一部分(176),所述改进包括使超声适应所述部分的特性。
16.一种包括多元件换能器阵列和显示器的设备,所述设备被配置成基于畸变估计的结果预测(92)对应的畸变的射束的形状,以及在所述显示器上显示所预测的形状的图像。
17.根据权利要求16所述的设备,对已穿过不均匀介质并且已经由为二维的所述换能器阵列(104、108)接收的透射超声执行所述畸变估计。
18.一种方法,包括:
在任何给定时刻,在多于一个空间维度中,接收已穿过不均匀介质的透射超声;
对所接收的超声执行畸变估计,所述畸变估计相应地说明在所述多于一个空间维度中的横向上的畸变,所述估计的结果能够用于改进超声操作(532)。
19.根据权利要求18所述的方法,所述改进包括通过基于相位延迟图修改相位延迟(528)来校正畸变,所述相位延迟图具有所述多于一个空间维度,在所述图中的各对单元之间的相对时间滞后被用于所述修改。
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