[发明专利]LPP方式的EUV光源及其产生方法在审
| 申请号： | 201080038899.6 | 申请日： | 2010-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN102484937A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 桑原一;堀冈一彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社IHI;国立大学法人东京工业大学 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 毛立群;王忠忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | lpp 方式 euv 光源 及其 产生 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种LPP方式EUV光源，其特征在于，具备：
真空腔室，被保持成真空环境；
气体射流装置，在该真空腔室内以能够回收并循环使用的方式形成靶物质的高超音速稳态气体射流；以及
激光装置，将激光聚光到所述高超音速稳态气体射流来进行照射，
在所述激光的聚光点激励靶物质而使等离子体产生，从那里使极紫外光发光。
2.根据权利要求1所述的LPP方式EUV光源，其特征在于，所述气体射流装置包括：高超音速喷嘴和高超音速扩压器，在所述真空腔室内夹着所述聚光点相向配置；以及气体再循环装置，从高超音速喷嘴喷射所述高超音速稳态气体射流，并且从高超音速扩压器回收所述高超音速稳态气体射流以使其循环。
3.根据权利要求1或2所述的LPP方式EUV光源，其特征在于，所述气体射流装置不提高所述真空腔室的反压力，并且稳定地形成适于激光的吸收和EUV光的放出的高密度的靶物质区域。
4.一种LPP方式EUV光产生方法，其特征在于，
将真空腔室内保持成真空环境，
在该真空腔室内以能够回收并循环的方式形成靶物质的高超音速稳态气体射流，
将激光聚光到所述高超音速稳态气体射流来进行照射，在所述激光的聚光点激励靶物质而使等离子体产生，从那里使极紫外光发光。
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