[发明专利]用于把半导体晶片从载体衬底分离的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201080038912.8 申请日: 2010-08-20
公开(公告)号: CN102612740A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: F.P.林德纳;J.布尔格拉夫 申请(专利权)人: EV集团有限责任公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;卢江
地址: 奥地利圣*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要:
搜索关键词: 用于 半导体 晶片 载体 衬底 分离 装置 方法
【权利要求书】:

1. 一种用于借助安装在薄膜框架(1)上的柔性薄膜(3)把产品衬底(4)从通过连接层(6)与所述产品衬底(4)相连接的载体衬底(2)分离的装置,所述薄膜包含粘合层(3s)以在所述薄膜(3)的接触面片段(3k)中容纳所述产品衬底(4),其中所述薄膜(3)在所述薄膜框架(1)上安装在薄膜(3)的围绕所述接触面片段(3k)的固定片段(3b)中,并且其中所述薄膜(3)包含位于所述接触面片段(3k)与所述固定片段(3b)之间的分离片段(3a),其特征在于,

所述装置具有分离工具,用于引起所述产品衬底(4)从所述产品衬底(4)的外周(4u)开始从所述载体衬底(2)分离。

2. 根据权利要求1所述的装置,

其特征在于,

除了所述分离工具之外,还设置连接分离工具,以至少部分地去除在所述载体衬底(2)与所述产品衬底(4)之间由所述连接层(6)所引起的连接。

3. 根据权利要求1或2之一所述的装置,

其特征在于,

所述连接分离工具包含用于至少部分地去除所述连接层(6)的液体介质,尤其是有选择地溶解所述连接层的溶剂(22)。

4. 根据权利要求1或2之一所述的装置,

其特征在于,

所述连接分离工具包含用于至少部分地去除所述连接层(6)的机械分离工具,尤其是用于切割所述连接层(6)的刀片。

5. 根据权利要求1或2之一所述的装置,

其特征在于,

所述连接分离工具包含用于至少部分地去除所述连接层(6)的UV光源。

6. 根据前述权利要求之一所述的装置,

其特征在于,

所述连接分离工具构造为尤其是仅仅在所述外周(4u)的区域内发挥作用。

7. 根据前述权利要求之一所述的装置,

其特征在于,

所述分离片段(3a)位于所述产品衬底(4)的外轮廓之外,和/或与所述接触面片段(3k)邻接。

8. 根据权利要求2或3所述的装置,

其特征在于,

为了给所述连接层(6)施加液体介质并为了容纳所述液体介质,设置固定在所述载体衬底或载体衬底接收器(7)上的、尤其是密封的溶剂容器(20),该溶剂容器的上边缘至少延伸至由所述产品衬底(4)所形成的平面。

9. 根据前述权利要求之一所述的装置,

其特征在于,

通过作用于所述载体衬底(2)上的力Fs以及与所述力Fs方向相反的、作用于所述薄膜框架(1)上的力Ff而导致所述分离。

10. 根据权利要求9所述的装置,

其特征在于,

所述薄膜(3)能通过所述力Fs和力Ff而在所述分离片段(3a)中张紧。

11. 根据权利要求9或10所述的装置,

其特征在于,

通过所述力Fs和力Ff能引起所述薄膜框架(1)相对于所述载体衬底(2)移动,其中由此在所述薄膜框架(1)内产生槽(9),所述槽为了把声波传输到所述产品衬底和/或所述溶剂(22)而具有声波生成工具,其尤其是由能容纳在所述槽(9)中的液体(11)以及淹没在所述液体(11)中的声波发生器(10)形成。

12. 根据前述权利要求之一所述的装置,

其特征在于,

从所述产品衬底(4)的外周(4u)向所述产品衬底(4)的中心(4z)同心地进行所述产品衬底(4)的分离。

13. 根据前述权利要求之一所述的装置,

其特征在于,

所述产品衬底(4)构造为在所述分离过程期间粘合在所述薄膜(3)上。

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