[发明专利]利用可倾斜的高架RF感应源的等离子体反应器

权利要求书

1.一种用于处理工件的等离子体反应器，其包括：

处理室壳体，其限定了处理室内部并且包括室侧壁以及室顶壁，并且工件保持件在所述处理室内部内；

导电RF壳体，其在所述顶壁上方、并且包括RF壳体侧壁和RF壳体顶盖；

肩部环，其被支撑在所述RF壳体侧壁上；

浮置支撑板，其在所述导电RF壳体内侧并且被定位成与所述肩部环相邻；

多个径向内、外RF等离子体源功率施加器，其从所述浮置支撑板悬挂在位于所述浮置支撑板下方、所述室顶壁上方的空间中；

多个RF功率源，所述多个RF功率源中的每一者被耦合到所述多个RF等离子体功率施加器中的相应一者；和

多个致动器，所述多个致动器相对于所述肩部环固定并且绕所述肩部环隔开周期性间隔，所述多个致动器中的每一者都包括轴向可移动臂、沿着轴向驱动所述轴向可移动臂的电机、以及具有两个接头端部的可旋转接头，一个所述接头端部被连接到所述轴向可移动臂，另一个所述接头端部被连接到所述浮置支撑板的与这一个致动器相邻的部分，由此所述浮置板由所述多个致动器中的分别每一者的可旋转接头支撑在分别的多个位置处。

2.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述多个致动器包括绕所述肩部环以120度的间隔隔开的三个致动器，由此所述致动器能够将所述浮置支撑板绕朝向任意方位角θ的倾斜轴倾斜。

3.根据权利要求2所述的等离子体反应器，还包括控制器设备，所述控制器设备控制所述多个致动器中每一者的电机，并且所述控制器设备被编程以由所述倾斜轴的所述方位角θ的期望值和绕所述倾斜轴的倾斜角α的期望值来计算所述多个致动器的轴向运动。

4.根据权利要求3所述的等离子体反应器，其中，所述多个致动器中的每一者被安装在所述肩部环上，并且所述多个致动器中的每一者包括具有所述电机和轨道模块的电机模块，所述轨道模块将所述可移动臂支撑为与所述电机模块并排，并且所述轨道模块连接到所述电机模块。

5.根据权利要求4所述的等离子体反应器，还包括柔性导电RF垫圈，其连接在所述浮置支撑板与所述肩部环之间。

6.根据权利要求5所述的等离子体反应器，还包括度量设备，其用于测量测试工件上的蚀刻速率分布，其中，所述控制器设备还被编程以由所述蚀刻速率分布推断出歪斜主轴并且将所述倾斜轴限定为所述歪斜主轴。

7.根据权利要求6所述的等离子体反应器，其中，所述控制器设备控制所述多个RF功率源的功率输出水平，所述控制器设备被编程以调整所述功率输出水平，以改善所述处理室中的等离子体离子密度的径向分布均匀性。

8.根据权利要求7所述的等离子体反应器，其中，所述多个RF源功率施加器包括多个同心螺旋导体绕组。

9.根据权利要求7所述的等离子体反应器，其中，所述浮置支撑板与所述肩部环间隔开提供所述支撑板的有限旋转范围的间隙。

10.根据权利要求7所述的等离子体反应器，其中，所述支撑板具有从所述RF壳体侧壁径向向内延伸的表面，并且所述表面在所述浮置支撑板的外周部分下方并与所述支撑板分离开所述间隙。

11.根据权利要求10所述的等离子体反应器，还包括在所述浮置支撑板与所述RF壳体盖之间的RF阻抗匹配设备，所述多个RF功率源经由所述RF阻抗匹配设备的各个组件连接到所述多个RF源功率施加器。