[发明专利]用于在平版印版的单步冲洗之后干燥的方法和装置

权利要求书

1.用于产生成像的平版印版的方法，其包括：

(a)用包含形成亲水膜的聚合物的水性显影剂处理包含辐射敏感涂层的成像曝光的平版印版前体；

(b)挤压步骤(a)的显影版以去除任何过量的显影剂；

(c)立即用至少一种以下可能方式至少从所述版的印刷面干燥步骤(b)的所述版：

(i)鼓风，其中空气温度和/或空气流是可变或可调节的，并且所述版温度不高于60℃；

(ii)热辊，其中所述辊的温度是可变或可调节的，并且是至少30℃；

(iii)辐射源，其中所述辐射源和所述版表面之间的距离和/或由所述辐射源发射的能量是可变或可调节的；

(iv)在至少150℃的温度下快速烘烤。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在步骤(c)中，所述干燥是通过鼓风进行，所述空气流仅引导至所述版的印刷面，或者第一空气流引导至所述版的印刷面而第二空气流引导至所述版的背面。

3.根据权利要求2所述的方法，其中各空气流干燥器和所述版表面之间的距离独立地选自0.5至20cm的范围。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中各空气流干燥器的空气温度是在18至100℃的范围内独立可变或可调节的。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中在步骤(c)中，通过鼓风进行干燥，并且将所述鼓风施加5至20秒。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述辐射敏感涂层对选自250至750nm范围的波长的辐射敏感并且用选自所述250至750nm范围的波长的辐射进行成像曝光，或者所述辐射敏感涂层对选自大于750至1200nm范围的波长的辐射敏感并且用选自大于所述750至1200nm范围的波长的辐射进行成像曝光。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述前体是阴图制版前体，其任选地包含外涂层，所述外涂层任选地在曝光之后但在步骤(a)之前被去除。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述前体是具有辐射敏感涂层的阳图制版前体，所述辐射敏感涂层对选自大于750至1200nm范围的波长的辐射敏感，并且用选自大于所述750至1200nm范围的波长的辐射进行成像曝光。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述辐射敏感涂层是2层涂层，其具有包含第一聚合物粘结剂的内层和接受油墨并包含不同于所述第一聚合物粘结剂的第二聚合物粘结剂的外层，并且其中所述层中的至少一个层包含IR吸收材料。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述第一聚合物粘结剂包含衍生自N-取代的环状酰亚胺、(甲基)丙烯酰胺、具有侧环状脲基的单体和(甲基)丙烯酸的共聚物。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中所述方法进一步包含在曝光之后但在步骤(a)之前的预热步骤。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，其中所述水性显影剂进一步包含苯甲醇和/或二乙醇胺。