[发明专利]用于制造七氟烷的方法

权利要求书

1.一种用于制造七氟烷(CF₃-CH(OCH₂F)-CF₃)的方法，它包括氟化具有化学式(I)或(II)的取代的丙二酸衍生物：

R₁OOC-CH(OCH₂X)-COOR₂(I)

R₃HNOC-CH(OCH₂X)-CONHR₄(II)

其中

-X是OH或可以通过亲核取代而被取代的离去基团，并且它优选选自卤素或含氧官能团；

-R₁、R₂彼此相同或不同，独立地选自H，任选地被至少一个卤素原子取代的、具有从1至10个碳原子的烷基，芳烷基基团，或芳基基团；

-R₃、R₄彼此相同或不同，独立地选自H，任选地被至少一个卤素原子取代的具有从1至10个碳原子的烷基，芳烷基基团，或芳基基团。

2.根据权利要求1所述的方法，其中R₁、R₂是H。

3.根据权利要求1和2所述的方法，其中X是氯、氟或OH。

4.根据权利要求3所述的方法，其中X是氯或氟，并且R₁、R₂是H。

5.根据权利要求3所述的方法，其中R₁、R₂是H并且X是OH。

6.根据权利要求1所述的方法，其中R₁和R₂是乙基基团并且X是氯或氟。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的方法，其中该氟化剂是SF₄。

8.根据权利要求7所述的方法，其中取代的丙二酸衍生物与SF₄的摩尔比的范围是从1∶3.5至1∶4.5。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的方法，其中在范围从50℃至70℃的温度下进行该氟化。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的方法，其中该氟化的压力是从5巴至25巴。

11.一种用于制造具有化学式(I)或(II)的取代的丙二酸衍生物的方法：

R₁OOC-CH(OCH₂X)-COOR₂(I)

R₃HNOC-CH(OCH₂X)-CONHR₄(II)

其中

-X是OH或可以通过亲核取代而被取代的离去基团；所述离去基团优选选自卤素或含氧官能团；

-R₁、R₂彼此相同或不同，独立地选自H，任选地被至少一个卤素原子取代的、具有从1至10个碳原子的烷基，芳烷基基团，或芳基基团；

-R₃、R₄彼此相同或不同，独立地选自H，任选地被至少一个卤素原子取代的、具有从1至10个碳原子的烷基，芳烷基基团，或芳基基团；

该方法是通过具有化学式(III)或(IV)的丙二酸衍生物与O-亲核体的反应而进行的：

R₁OOC-CH(Y)-COOR₂(III)

R₃HNOC-CH(Y)-CONHR₄(IV)

其中

-Y是可以通过亲核取代而被取代的离去基团；Y优选选自卤素或含氧官能团，例如OTos和OTMS，

-R₁、R₂、R₃和R₄如以上所定义。

12.根据权利要求11所述的方法，其中该O-亲核体是甲醛或甲醛衍生物。

13.根据权利要求11或12中任意一项所述的方法，其中在碱的存在下进行该反应。