[发明专利]产生用于处理基底的光束的光学系统无效
申请号: | 201080040777.0 | 申请日: | 2010-07-20 |
公开(公告)号: | CN102498428A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | J.万格勒;M.莱;M.曾津格;H.明兹 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司激光器材有限责任公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;B23K26/06;B23K26/073 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 用于 处理 基底 光束 光学系统 | ||
1.一种光学系统,用于产生处理布置在基底平面(14)中的基底的光束,其中所述光束在垂直于所述光束的传播方向(Z)的第一维度(X)上具有束长度(L),以及在垂直于所述第一维度(X)并且垂直于所述光传播方向(Z)的第二维度(Y)上具有束宽度(B),其中相对于所述束宽度(B),所述束长度(L)较大,所述光学系统包括第一光学布置(18),所述第一光学布置(18)确定多个光通道(26;28),所述多个光通道(26;28)在所述第一维度(X)上彼此相邻布置并且在所述第一维度(X)上将所述光束分成多个部分场(30,32,34),其中所述部分场(30,32,34)在所述第一维度(X)上以彼此叠加的方式入射到所述基底平面(14)中,其特征在于:在所述光传播方向上,所述第一光学布置(18)的上游布置第二光学布置(20),所述第二光学布置在所述第一维度(X)上具有这样的范围并且扩展入射到所述第二光学布置(18)上的光束(42)在第一维度(X)上的角谱,使得所述第二光学布置(20)在所述第一维度(X)上的集光率是所述光学系统在所述第一维度(X)上的总集光率的50%到100%,从而所述第一光学布置(18)的至少几乎所有光通道(26;28)都被光均匀地照明。
2.如权利要求1所述的光学系统,其特征在于:所述第二光学布置(20)的集光率是所述光学系统的总集光率的70%到100%,优选80%到100%,更优选90%到100%。
3.如权利要求1或2所述的光学系统,其特征在于:所述第二光学布置(20)的光学特性被设计为使得从所述第二光学布置(20)的沿着所述第一维度(X)的任意部分区域(46,48,50)出射的光至少近似包含整个角度信息并且至少近似地进入所述第一光学布置(18)的每个光通道(26,28)。
4.如权利要求1至3中的任一项所述的光学系统,其特征在于:所述第二光学布置(20)被设计为通过位置调整来改变所述入射光束(42)在所述第二维度(Y)上的束宽度(B)。
5.如权利要求4所述的光学系统,其特征在于:所述第二光学布置(20)被设计为通过围绕所述光传播方向的旋转来改变所述入射光束(42)在所述第二维度(Y)上的束宽度(B)。
6.如权利要求1至5中的任一项所述的光学系统,其特征在于:所述第二光学布置(20)具有至少一个光学元件(44),所述光学元件(44)具有在所述第一维度(X)上具有一维散射和/或衍射效果的结构。
7.如权利要求6所述的光学系统,其特征在于:所述至少一个光学元件(44)是衍射光学元件。
8.如权利要求3、6或7所述的光学系统,其特征在于:所述具有散射和/或衍射效果的结构具有形成非周期部分结构(58)的结构元件,其中每个部分结构(58)形成所述部分区域(46,48,50)中的一个,从所述部分区域(46,48,50)分别出射的光至少近似包含整个角度信息。
9.如权利要求8所述的光学系统,其特征在于:在所述第一维度(X)上,所述光学元件(44)的具有散射和/或衍射效果的结构的各个相邻部分结构(58)之间的距离和/或所述部分结构(58)的尺寸是不同的。
10.如权利要求9所述的光学系统,其特征在于:选择所述光学元件(44)的具有散射和/或衍射效果的结构的各个相邻部分结构(58)之间的距离的平均距离,使得来自于入射到所述第二光学布置(20)上的光束(42)的每个横向相干单元的光被近似在整个束长度(L)上从所述第一光学布置(18)引导到所述基底平面(14)中。
11.如权利要求9或10所述的光学系统,其特征在于:选择所述光学元件(44)的具有散射和/或衍射效果的结构的各个相邻部分结构(58)之间的距离的平均距离,使得由所述第一光学布置(18)在所述基底平面(14)中产生的干涉对比度被最小化。
12.如权利要求11所述的光学系统,其特征在于各个相邻部分结构(58)之间的距离的平均距离满足以下关系:
所述光束的光的横向相干长度lc<所述部分结构(58)之间的平均距离。
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