[发明专利]用于生产陶瓷器件的方法、陶瓷器件与器件布置有效

专利信息
申请号: 201080040833.0 申请日: 2010-09-01
公开(公告)号: CN102550136A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: O·格雷德特克;P·威克特;W·勒特林施奥埃费尔 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H05K3/40 分类号: H05K3/40;C04B41/52
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 苏娟
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 生产 陶瓷 器件 方法 布置
【权利要求书】:

1.一种用于生产陶瓷器件(1)的方法,包括以下步骤:a)提供陶瓷基片(2),其中陶瓷基片(2)的内部和/或者表面上有导体通路(3),陶瓷基片(2)至少部分被釉层(5)遮盖;b)在导体通路(3)的待接触的接触区(15)的区域内的釉层(5)中形成接触孔(6);c)在接触孔(6)区域内涂覆金属层(7)用来在接触区(15)中与导体通路(3)接触。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了涂覆金属层(7)使用无电流化学镀层法。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了提供陶瓷基片(2),在将釉层(5)涂覆到陶瓷基片(2)上之前将抗粘剂(8)涂覆到导体通路(3)的接触区(15)上。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述抗粘剂(8)是陶瓷粉末,该陶瓷粉末的烧结温度高于釉层(5)的软化温度。

5.根据权利要求3至4中任一项所述的方法,其特征在于,在下一个步骤中去除抗粘剂(8)以露出导体通路(3)的接触区(15)。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,在形成接触孔(6)之后或者在形成接触孔(6)时至少部分重叠地执行除去抗粘剂(8)。

7.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,接触孔(6)的形成以及必要时抗粘剂(8)的除去包括通过剥离材料的射束(9),优选是通过激光束或通过水射束,优选通过掺有研磨剂的水射束,进行喷射。

8.一种陶瓷器件(1),包括陶瓷基片(2)、将陶瓷基片(2)至少部分遮盖的釉层(5)、以及位于陶瓷基片(2)的内部和/或者表面上的导体通路(3),其特征在于,所述釉层(5)具有接触孔(6),并且陶瓷器件在接触孔(6)的区域内具有金属层(7),其中所述金属层(7)与导体通路(3)接触。

9.根据权利要求8所述的陶瓷器件,其特征在于,陶瓷基片(2)具有多个陶瓷基片层。

10.一种器件布置,包括权利要求8或9中任一项所述的陶瓷器件(1)、连接器件(12)和BGA(10),其特征在于,通过BGA(10)将陶瓷器件(1)的金属层(7)与连接器件(12)的连接触点(13)连接。

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