[发明专利]用于生产陶瓷器件的方法、陶瓷器件与器件布置有效
申请号: | 201080040833.0 | 申请日: | 2010-09-01 |
公开(公告)号: | CN102550136A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | O·格雷德特克;P·威克特;W·勒特林施奥埃费尔 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | H05K3/40 | 分类号: | H05K3/40;C04B41/52 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 苏娟 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 生产 陶瓷 器件 方法 布置 | ||
1.一种用于生产陶瓷器件(1)的方法,包括以下步骤:a)提供陶瓷基片(2),其中陶瓷基片(2)的内部和/或者表面上有导体通路(3),陶瓷基片(2)至少部分被釉层(5)遮盖;b)在导体通路(3)的待接触的接触区(15)的区域内的釉层(5)中形成接触孔(6);c)在接触孔(6)区域内涂覆金属层(7)用来在接触区(15)中与导体通路(3)接触。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了涂覆金属层(7)使用无电流化学镀层法。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了提供陶瓷基片(2),在将釉层(5)涂覆到陶瓷基片(2)上之前将抗粘剂(8)涂覆到导体通路(3)的接触区(15)上。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述抗粘剂(8)是陶瓷粉末,该陶瓷粉末的烧结温度高于釉层(5)的软化温度。
5.根据权利要求3至4中任一项所述的方法,其特征在于,在下一个步骤中去除抗粘剂(8)以露出导体通路(3)的接触区(15)。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,在形成接触孔(6)之后或者在形成接触孔(6)时至少部分重叠地执行除去抗粘剂(8)。
7.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,接触孔(6)的形成以及必要时抗粘剂(8)的除去包括通过剥离材料的射束(9),优选是通过激光束或通过水射束,优选通过掺有研磨剂的水射束,进行喷射。
8.一种陶瓷器件(1),包括陶瓷基片(2)、将陶瓷基片(2)至少部分遮盖的釉层(5)、以及位于陶瓷基片(2)的内部和/或者表面上的导体通路(3),其特征在于,所述釉层(5)具有接触孔(6),并且陶瓷器件在接触孔(6)的区域内具有金属层(7),其中所述金属层(7)与导体通路(3)接触。
9.根据权利要求8所述的陶瓷器件,其特征在于,陶瓷基片(2)具有多个陶瓷基片层。
10.一种器件布置,包括权利要求8或9中任一项所述的陶瓷器件(1)、连接器件(12)和BGA(10),其特征在于,通过BGA(10)将陶瓷器件(1)的金属层(7)与连接器件(12)的连接触点(13)连接。
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