[发明专利]金属氧化物-金属复合溅射靶无效
申请号: | 201080041069.9 | 申请日: | 2010-09-15 |
公开(公告)号: | CN102498233A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 松崎均;高木胜寿;慈幸范洋;得平雅也 | 申请(专利权)人: | 株式会社钢臂功科研 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;G11B7/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 翟赟琪 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 氧化物 复合 溅射 | ||
技术领域
本发明涉及对于光信息记录媒体用记录层等的形成有用的金属氧化物-金属复合溅射靶。
背景技术
Blu-Ray Disc(蓝光光盘)等光信息记录媒体的记录层,由无机材料和有机材料等各种各样的材料构成,例如由无机材料构成的记录层优选通过使与记录层相同材料的溅射靶溅射的溅射法形成。在此,所谓溅射法是指,在抽真空后导入了Ar的溅射室内,在基板和溅射靶之间形成等离子体放电,使经由该等离子体放电而离子化的Ar碰撞溅射靶,撞击出该溅射靶的原子,使之堆积在基板上而制作薄膜的方法。由溅射法形成的薄膜,与离子镀、真空蒸镀和电子束蒸镀法所形成的薄膜相比,膜面方向(膜面内)的成分组成和膜厚等的面内均匀性优异。另外,溅射法与真空蒸镀法不同,具有能够形成与溅射靶相同成分组成的薄膜这一优点。
但是,对于含有金属氧化物和金属的光信息记录媒体用记录层等的形成有用的金属氧化物-金属复合溅射靶,至今为止还没有被具体开发。
例如在专利文献1中,公开有一种追记型光记录媒体,其包含具有第一反应层和第二反应层的记录层,在实施例中记述的要旨是,在基板上,通过溅射法依次形成:由ZnS和SiO2的混合物构成的第二介电层、由Cu构成的第二反应层、由Si构成的第1反应层和由ZnS和SiO2的混合物构成的第一介电层,但溅射法的详情完全没有记述。
另外,在专利文献2中公开有一种光学的信息记录媒,其具有由Te、O和规定元素M构成的记录层,在实施例中记述的要旨是,通过溅射法形成Te-O-Pd记录层。但是,其实际状态是在Ar和O2的混合气体的气氛中,使用Te-Pd靶进行溅射,没有公开含有金属氧化物和金属的复合溅射靶。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-203383号公报
专利文献2:日本特开2002-251778号公报
发明内容
本发明鉴于上述情况而做,其目的在于,提供一种对于含有金属氧化物和金属的光信息记录媒体用记录层等的形成有用的金属氧化物-金属复合溅射靶。
本发明包括以下方式。
(1)一种金属氧化物-金属复合溅射靶,其是含有金属氧化物A和金属B的金属氧化物-金属复合溅射靶,其中,所述金属氧化物A的当量圆直径的最大值控制在200μm以下。
还有,在含有上述(1)的金属氧化物A和金属B的金属氧化物-金属复合溅射靶中,金属氧化物A也可以凝集。
(2)根据(1)所述的金属氧化物-金属复合溅射靶,其中,相对密度为92%以上。
(3)根据(1)或(2)所述的金属氧化物-金属复合溅射靶,其中,构成所述金属氧化物A的金属AM和所述金属B相同或不同。
(4)根据(1)~(3)中任一项所述的金属氧化物-金属复合溅射靶,其中,所述金属氧化物A是选自氧化In、氧化Bi、氧化Zn、氧化W、氧化Sn、氧化Co、氧化Ge和氧化Al中的至少一种。
(5)根据(1)~(4)中任一项所述的金属氧化物-金属复合溅射靶,其中,所述金属B是选自Pd、Ag、W、Cu、Ge、Co和Al中的至少一种。
(6)根据(1)~(5)中任一项所述的金属氧化物-金属复合溅射靶,其被用于光信息记录媒体用记录层的形成。
本发明的金属氧化物-金属复合溅射靶,因为金属氧化物的当量圆直径的最大值被控制在200μm以下,所以在溅射中不会招至异常放电的发生,或由于热应力造成的溅射靶的裂纹发生这样的问题,能够高效率地制作该溅射靶的组成所对应的金属氧化物-金属复合记录层。另外,本发明的金属氧化物-金属复合溅射靶,因为优选相对密度控制在92%以上,所以在溅射中不会招致气体从溅射靶发生等问题,操作稳定,生产率提高。
附图说明
图1(a)和图1(b)是表示用于实施例的No.1(本发明例)的溅射靶的组织的光学显微镜照片,图1(b)是图1(a)的放大图。
图2(a)和图2(b)是表示用于实施例的No.2(本发明例)的溅射靶的组织的光学显微镜照片,图2(b)是图2(a)的放大图。
图3(a)和图3(b)是表示用于实施例的No.12(比较例)的溅射靶的组织的光学显微镜照片,图3(b)是图3(a)的放大图。
具体实施方式
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