[发明专利]碳酸铈类化合物的制备方法、氧化铈的制备方法和结晶氧化铈有效
申请号: | 201080042134.X | 申请日: | 2010-08-18 |
公开(公告)号: | CN102596810A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 曹升范;崔相洵;赵俊衍 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | C01F17/00 | 分类号: | C01F17/00;C09K3/14 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 钟守期;王媛 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碳酸 化合物 制备 方法 氧化 结晶 | ||
1.一种碳酸铈类化合物的制备方法,其包括在50℃以上的温度使铈镧石反应生成包含正交晶系的碳酸氧铈水合物(Ce2O(CO3)2·H2O)、六方晶系的碳酸羟铈(Ce(OH)·(CO3))或其混合物的碳酸铈类化合物的步骤。
2.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中铈镧石的反应在液相介质中进行。
3.权利要求2的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述液相介质包含至少一种选自水、乙醇、甲醇、二甲基甲酰胺(DMF)和二甲基亚砜(DMSO)的溶剂。
4.权利要求3的碳酸铈类化合物的制备方法,其中对分散于含水溶剂中的铈镧石进行反应。
5.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在50至300℃的温度下进行。
6.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在常压至100bar的压力下起始。
7.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应进行0.5至100小时。
8.权利要求2的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在铈镧石与液相介质的重量比为1∶0.5至1∶20的液相介质中进行。
9.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在50至130℃的温度下进行,生成包含正交晶系的碳酸氧铈水合物(Ce2O(CO3)2·H2O)的碳酸铈类化合物。
10.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在110至300℃的温度下进行,生成包含六方晶系的碳酸羟铈(Ce(OH)·(CO3))的碳酸铈类化合物。
11.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在50℃以上至低于110℃温度下进行,生成包含50体积%以上的正交晶系的碳酸氧铈水合物(Ce2O(CO3)2·H2O)的碳酸铈类化合物。
12.权利要求1的碳酸铈类化合物的制备方法,其中所述铈镧石的反应在高于130℃至300℃以下的温度下进行,生成包含50体积%以上的六方晶系的碳酸羟铈(Ce(OH)·(CO3))的碳酸铈类化合物。
13.一种碳酸铈类化合物,其由权利要求1至12任一项的方法制备。
14.权利要求13的碳酸铈类化合物,其中所述碳酸铈类化合物包含50体积%以上的正交晶系的碳酸氧铈水合物(Ce2O(CO3)2·H2O)或六方晶系的碳酸羟铈(Ce(OH)·(CO3))。
15.一种氧化铈的制备方法,其包括:根据权利要求1至12任一项的方法制备碳酸铈类化合物的步骤;烧结所述碳酸铈类化合物的步骤。
16.权利要求15的氧化铈的制备方法,其中烧结在300至1,500℃的温度下进行。
17.一种结晶氧化铈,其包含多个氧化铈颗粒,
其中在每个氧化铈颗粒上形成限定多个晶粒的晶界,并且每个晶粒包括一个以上氧化铈晶体。
18.权利要求17的结晶氧化铈,其中所述晶粒的尺寸为20至300nm,并且所述氧化铈晶体的尺寸为10至300nm。
19.权利要求17的结晶氧化铈,其中当所述结晶氧化铈分散于含水溶剂中时,其具有0.5至5μm的平均体积粒径。
20.一种CMP用浆料,其包含权利要求17至19任一项的结晶氧化铈的粉末作为磨料。
21.权利要求20的CMP用浆料,其中所述CMP用浆料包含分散于含水溶剂中的磨料和聚合物分散剂。
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