[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及器件制造方法无效
申请号: | 201080042251.6 | 申请日: | 2010-08-02 |
公开(公告)号: | CN102576194A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | A·亚库宁;V·班尼恩;M·凡赫彭;W·索尔;M·杰克 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/00;G02B5/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光谱 纯度 滤光 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
1.一种光谱纯度滤光片,具有多个孔,所述滤光片包括:
衬底,包括第一表面;和
多个壁,所述壁具有限定通过衬底的多个孔的侧表面,
其中所述侧表面相对于第一表面的法线是倾斜的。
2.如权利要求1所述的光谱纯度滤光片,其中所述侧表面与第一表面的法线之间的倾斜角度在大约1°至大约5°范围内。
3.如权利要求1或2所述的光谱纯度滤光片,其中所述侧表面是倾斜的,使得孔的宽度随着离开第一表面而增大。
4.如权利要求1或2所述的光谱纯度滤光片,其中所述侧表面是倾斜的,使得孔的宽度随着离开第一表面而减小。
5.如权利要求1-4中任一项所述的光谱纯度滤光片,其中所述壁在垂直于第一表面的平面内具有三角形的横截面。
6.如权利要求5所述的光谱纯度滤光片,其中所述壁的横截面是等腰角形。
7.如权利要求1所述的光谱纯度滤光片,其中每个侧表面具有:邻近第一表面的第一部分,所述第一部分是倾斜的、使得孔的宽度随着离开第一表面而减小;和第一表面远端处的第二部分,所述第二部分是倾斜的、使得孔的宽度随着离开第一表面而增大。
8.如权利要求7所述的光谱纯度滤光片,其中所述壁在垂直于第一表面的平面内的横截面是菱形的或风筝形的。
9.如权利要求1-8中任一项所述的光谱纯度滤光片,其中所述壁中的至少一个的侧表面相对于第一表面的法线的倾斜角度不同于所述壁中的另一个的侧表面相对于第一表面的法线的倾斜角度。
10.如权利要求9所述的光谱纯度滤光片,其中所述侧表面相对于第一表面的法线的倾斜角度随着侧表面离开光谱纯度滤光片的中心的距离增大而增大。
11.如权利要求1-10中任一项所述的光谱纯度滤光片,其中所述孔在第一表面的平面内具有六边形的横截面。
12.如权利要求1-11中任一项所述的光谱纯度滤光片,还包括第一层,其位于衬底上用以反射第一波长的辐射。
13.一种光刻设备,包括如权利要求1-12中任一项所述的光谱纯度滤光片。
14.如权利要求13所述的光刻设备,还包括:
照射系统,配置成调节辐射束;
支撑结构,配置成支撑图案形成装置,所述图案形成装置配置成赋予辐射束为图案化辐射束;
衬底台,配置成保持衬底;和
投影系统,配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。
15.一种器件制造方法,包括步骤:
提供辐射束;
图案化所述辐射束;
将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上;和
使用如权利要求1-12中任一项所述的光谱纯度滤光片提高辐射束的光谱纯度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080042251.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。