[发明专利]处理装置有效

专利信息
申请号: 201080042447.5 申请日: 2010-09-27
公开(公告)号: CN102574084A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 中野要介;小矢岛良章;石川修;关根靖由;高桥雄介 申请(专利权)人: 日本焦化工业株式会社
主分类号: B01J2/10 分类号: B01J2/10;B01F7/16;B01J2/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及处理粉粒体的处理装置,尤其涉及能够进行如复合化或者球形化等深度处理的处理装置。

背景技术

在对粒径是微米精密级或者纳米级的粉粒体进行处理时,一般对粉粒体采取如下处理,即:对纵横比(aspect ratio)较大的粒子进行球形化处理,或者将粒径较小的粒子涂覆在粒径较大的粒子表面上,或者将多种粒子复合成一体化的球状粒子等。

例如在专利文献1中记载有如图10所示的处理装置。该处理装置110具有:横置式圆筒形的混合槽120;贯穿一方的侧壁而设置的旋转轴130;设置在旋转轴130上的多个搅拌叶片140。由于粉粒体的处理伴随大量热量产生,所以在混合槽120中设置有水套193,用流水进行冷却。

此外,混合槽120的两侧设置有粉粒体的投入口191和排出口192,从而可以连续处理。搅拌叶片140由运送叶片和返回叶片交替组合形成,该运送叶片具有通过旋转将处理物向排出口192运送的倾斜部,该返回叶片具有通过旋转将处理物返送到投入口191的倾斜部。

在处理装置110中,通过运送叶片和返回叶片,可以交替地给处理物反复施加较强的作用力。于是可以进行粉粒体的复合化或者涂覆等处理。我们可以认为,对粉粒体的处理效果会受到搅拌叶片140的形状和配置等结构要素的较大影响。但问题是,结构要素的改变并不容易,且处理条件不能简单改变,因而很难找到最佳处理条件。

在专利文献2中记载有如图11所示的处理装置。该处理装置210具备旋转轴230,该旋转轴230在立式混合槽220的内部,且以贯穿混合槽220的槽底的方式插入设置。在旋转轴230上设置有筒状旋转体281以及多个搅拌叶片240。旋转体281上设置有多个开口282,旋转体281的内表面受到压头283推压。此外,混合槽220设置水套293,从而可以用流水进行冷却。

利用该处理装置210可以进行分批处理。投入到混合槽220中的处理物一边在旋转体281的内外循环流动,一边被处理。即,处理物通过开口282从旋转体281的内侧流向外侧,在旋转体281的外侧,被搅拌叶片240推动而向上方流动,在旋转体281的上部从外侧回流到内侧。并且,在旋转体281的内侧,由压头283对处理物施加较强的压缩力以及剪切力,从而可以进行粉粒体的复合化或涂覆等处理。

但是,由于处理装置210结构复杂,所以装置价格高昂。另外,还存在如下问题,即:由于结构复杂,所以很难对处理物的流动进行控制,很难找到最佳处理条件。

现有技术文献

专利文献

(专利文献1):日本特开2005-270955号公报

(专利文献2):日本特开2005-15910号公报

发明内容

本发明的课题是提供一种处理装置,该处理装置通过给粉粒体的处理物施加较强的压缩力或剪切力,从而可进行复合化或涂覆等高度处理,而且,结构简单并可容易地控制处理物的流动,可容易地找到最佳处理条件。

为了解决上述课题,本发明的技术方案1所涉及的处理装置采用的内容是,其是粉粒体的处理装置,包括:立式混合槽;以贯穿所述混合槽的槽底的方式插入设置的旋转轴;设置在所述旋转轴上的多个搅拌叶片;固定设置在所述混合槽中的多个碰撞板,其中,在将所述混合槽的直径取为d时,所述搅拌叶片与所述碰撞板的最短距离在0.1d以下。

此外,本发明的技术方案2所涉及的处理装置采用的内容是,在技术方案1中所记载的处理装置中,在将所述混合槽的直径取为d时,所述碰撞板的大小在宽度上是0.05d-0.25d,在高度上是0.05d-0.2d。

此外,本发明的技术方案3所涉及的处理装置采用的内容是,在技术方案1或2中所记载的处理装置中,所述混合槽是圆筒状且槽底角部圆滑地形成,将所述混合槽的直径取为d时,其曲率半径在0.05d以上。

此外,本发明的技术方案4所涉及的处理装置采用的内容是,在技术方案1-3中任一项所记载的处理装置中,所述搅拌叶片排列设置在大体呈圆锥状形成的凸起部的倾斜面上。此外,本发明的技术方案5所涉及的处理装置采用的内容是,在技术方案4中所记载的处理装置中,所述搅拌叶片的上部由环状上板连接在一起,粉粒体在该环状上板与所述倾斜面之间从内侧向外侧流动。

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