[发明专利]活塞环

权利要求书

1.一种活塞环，特别是压缩活塞环，其特征在于，包括运行表面(2)、上部和下部侧面区域(4)、内圆周表面(3)和连接部(5)；其中，在整个圆周，活塞环(1)的壁厚(D)均相等且至少在运行表面(2)上设置有单一的PVD或CVD层(6)，以便在靠近连接部的且起始于连接部(5)的各自的连接边缘(9、10)及延伸至圆周角(α)＜20°的圆周区域(7、8)中比在运行表面(2)的剩余圆周区域中，运行表面层(6)具有更佳的粗糙度，及其层厚(s′)比运行表面(2)的剩余圆周区域中的层厚(s)更薄。

2.根据权利要求1所述的活塞环，其特征在于，层厚(s)为20～50μm且在靠近连接部的区域(7、8)减少1～10μm。

3.根据权利要求1或2所述的活塞环，其特征在于，通过设置凹槽(11)，在靠近连接部的各自的区域(7、8)中，将壁厚(s)变换成壁厚(s′)。

4.根据权利要求1～3任一所述的活塞环，其特征在于，层厚减少的圆周区域(7、8)的粗糙度的范围为0.8～1.2μm。

5.根据权利要求1～4任一所述的活塞环，其特征在于，层厚减少的圆周区域(7、8)外的粗糙度＜0.08μm。

6.一种制造活塞环的方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一活塞环，特别是压缩活塞环，其包括运行表面(2)、上部和下部侧面区域(4)、内圆周表面(3)和连接部(5)；其中，在整个圆周，活塞环(1)的壁厚(D)均相等；

使用单一的PVD或CVD层(6)，涂敷至少运行表面(2)，以便在靠近连接部的且起始于连接部(5)的各自的连接边缘(9、10)及延伸至圆周角(α)＜20°的圆周区域(7、8)中比在运行表面(2)的剩余圆周区域中，运行表面层(6)具有更佳的粗糙度，及其层厚(s′)比运行表面(2)的剩余圆周区域中的层厚(s)更薄；及

对运行表面(2)进行圆周处理，以便在剩余的圆周区域中比靠近连接部的圆周区域(7、8)中，运行表面层(6)具有较小的粗糙度。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，不同层厚的比例(s∶s′)为以便在涂敷之后的运行表面(2)或运行表面层(6)的圆周处理过程中，靠近连接部的活塞环(1)的各自区域(7、8)不经受圆周处理。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，在运行表面(2)或运行表面层(6)的处理过程中，减少壁厚的圆周区域(7、8)保持涂敷状态。

9.根据权利要求6～8任一所述的方法，其特征在于，圆周处理包括研磨。

10.根据权利要求6～9任一所述的方法，其特征在于，圆周处理一方面在靠近连接部的圆周区域(7、8)中且另一方面在剩余的圆周区域中的操作方法，使用不同的材料。