[发明专利]光学系统中的、尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置

权利要求书

1.一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，包括：

至少一发热子系统(110-810)，在所述光学系统操作期间发射热；

第一热屏蔽(120-820)，设置成至少部分吸收所述发热子系统(110-810)所发射的热；

第一冷却装置(130-830)，与所述第一热屏蔽机械接触，并被设计为将来自所述第一热屏蔽的热散掉；以及

第二热屏蔽(140-840)，至少部分吸收所述第一热屏蔽(120-820)所发射的热，所述第二热屏蔽(140-840)同样地与将来自所述第二热屏蔽(140-840)的热散掉的冷却装置机械接触。

2.如权利要求1所述的光学布置，其特征在于：所述第二热屏蔽(140-840)不与所述第一热屏蔽机械接触，或仅在所述第一冷却装置(130-830)的区域中与所述第一热屏蔽机械接触。

3.如权利要求1或2所述的光学布置，其特征在于：与所述第二热屏蔽热接触的冷却装置是独立于所述第一冷却装置(130-830)的第二冷却装置。

4.如权利要求3所述的光学布置，其特征在于：所述第一冷却装置和所述第二冷却装置连接到不同的冷却回路。

5.如权利要求1或2所述的光学布置，其特征在于：与所述第二热屏蔽热接触的冷却装置是所述第一冷却装置(130-830)。

6.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：其具有至少三个热屏蔽(220、240-241；320、340-342；420、440-442)，尤其是至少四个热屏蔽(320、340-342；420、440-442)。

7.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：至少一个所述热屏蔽、尤其是所有的所述热屏蔽，至少在一些区域中具有第一涂层(460、660)，所述第一涂层(460、660)具有最多0.5、尤其是最多0.2，更尤其是最多0.05的发射率，其适配于冷却器温度或针对所述发热子系统(110-810)所发射的热。

8.如权利要求7所述的光学布置，其特征在于：所述第一涂层(460、660)至少设置在相关热屏蔽的背离所述发热子系统(410、610)的那一侧上。

9.如权利要求7所述的光学布置，其特征在于：所述第一涂层(460、660)至少设置在相关热屏蔽的面对所述发热子系统(450、650)的那一侧上。

10.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述第一热屏蔽(420、620)至少在一些区域中具有第二涂层(470、670)，其针对所述发热子系统(110-810)所发射的热具有至少0.5、尤其是至少0.8、更尤其是至少0.95的发射率。

11.如权利要求10所述的光学布置，其特征在于：所述第二涂层(470、670)至少设置在相关热屏蔽(420、620)的面对所述发热子系统(410、610)的那一侧。

12.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述热屏蔽(530、540-542、630、640-642)形成至少一个部分壳体，其具有与所述布置的周边不同的气体环境。

13.如权利要求12所述的光学布置，其特征在于：所述部分壳体中包含的气体的导热性比周边气体环境中包含的气体的导热性差。

14.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述第二热屏蔽(140-840)具有对应于所述第一热屏蔽(120-820)的几何形状。

15.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述第一热屏蔽(720、820)至少在一些区域中以类似盒子或罩子的方式包围所述发热子系统(710、810)。

16.如权利要求1至14中的任一项所述的光学布置，其特征在于：还存在温度敏感子系统，所述第一热屏蔽(720、820)至少在一些区域中以类似盒子或罩子的方式包围所述温度敏感子系统。

17.如前述权利要求中的任一项所述的光学布置，其特征在于：所述第二热屏蔽(740、840)至少在一些区域中以类似盒子或罩子的方式包围所述第一热屏蔽(720、820)。