[发明专利]用于气体处理的系统和方法

权利要求书

1.一种用于吸附卤代烃的吸附剂，该吸附剂包括：

平均孔隙开口在5至50埃之间的亲有机物孔隙晶格结构。

2.如权利要求1所述的吸附剂，其中所述吸附剂为基于SiO₂的材料。

3.如权利要求2所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有98∶1或更大的SiO₂∶Al₂O₃的重量比。

4.如权利要求1或2所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有小于10重量％的Al₂O₃。

5.如权利要求1或2所述的吸附剂，其中所述吸附剂基本上不含Al₂O₃。

6.如权利要求1至5中任一项所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有小于约1质量％的阳离子。

7.如权利要求1至6中任一项所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有在5至10埃之间的平均孔隙尺寸。

8.如权利要求1至6中任一项所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有在15至30埃之间的平均孔隙尺寸。

9.如权利要求1至8中任一项所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有约400至约1500m²/g的平均表面积。

10.如权利要求9所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有约750m²/g的平均表面积。

11.如权利要求1至10中任一项所述的吸附剂，其中所述吸附剂具有小于约0.1质量％的阳离子。

12.一种用于从气体流中回收至少一种卤代烃的方法，该方法包括步骤：

将气体流暴露于至少一种吸附剂，所述吸附剂具有平均孔隙开口在5至50埃之间的亲有机物孔隙晶格结构；

从气体流中移除包含吸附的至少一种卤代烃的至少一种吸附剂；以及

通过在一些条件下将所述至少一种吸附剂暴露于净化气体而在净化气体中再生至少一种吸附剂，所述条件使得至少一种吸附的卤代烃从至少一种吸附剂解吸。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述至少一种吸附剂为基于SiO₂的材料。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述至少一种吸附剂具有98∶1或更大的SiO₂∶Al₂O₃的重量比。

15.如权利要求12或13所述的方法，其中所述至少一种吸附剂具有小于10重量％的Al₂O₃。

16.如权利要求12或13所述的方法，其中所述至少一种吸附剂基本上不含Al₂O₃。

17.如权利要求12至16中任一项所述的方法，其中所述至少一种吸附剂具有小于约1质量％的阳离子。

18.如权利要求12至17中任一项所述的方法，其中所述至少一种吸附剂具有在5至10埃之间的平均孔隙尺寸。

19.如权利要求12至17中任一项所述的方法，其中所述至少一种吸附剂具有在15至30埃之间的平均孔隙尺寸。

20.如权利要求12至19中任一项所述的方法，其中所述至少一种吸附剂具有约400至约1500m²/g的平均表面积。

21.如权利要求20所述的方法，其中所述吸附剂具有约750m²/g的平均表面积。

22.如权利要求12至21中任一项所述的方法，其中该方法包括将气体流暴露于至少两种吸附剂，所述至少两种吸附剂中的每一种具有不同尺寸的平均孔隙开口。

23.如权利要求22所述的方法，其中该方法包括将气体流暴露于两种吸附剂，所述两种吸附剂之一具有在5至10埃之间的平均孔隙开口，所述两种吸附剂中的另一个具有在15至30埃之间的平均孔隙开口。