[发明专利]催化CVD装置、膜的形成方法、太阳能电池的制造方法和基材的保持体

权利要求书

1.一种催化CVD装置，其特征在于：

其对设置于反应室内且被加热的催化剂丝供给原料气体，使所生成的分解产物沉积于在所述反应室内由保持体所保持的被成膜基材上，进行成膜，

所述保持体具有用于防止从所述催化剂丝放出的辐射线反射的防反射结构。

2.如权利要求1所述的催化CVD装置，其特征在于：

所述防反射结构包含防反射膜。

3.如权利要求2所述的催化CVD装置，其特征在于：

所述防反射膜包含含硅膜。

4.如权利要求3所述的催化CVD装置，其特征在于：

所述含硅膜具有非晶结构和结晶结构中的至少任意1种结构。

5.如权利要求2所述的催化CVD装置，其特征在于：

所述防反射膜包含混合晶膜。

6.如权利要求1～4中任一项所述的催化CVD装置，其特征在于：

所述防反射结构具有与所述被成膜基材相对设置的凹凸结构。

7.一种催化CVD装置，其特征在于：

其对设置于反应室内且被加热的催化剂丝供给原料气体，使所生成的分解产物沉积在所述反应室内由保持体所保持的被成膜基材上，进行成膜，

所述保持体具有在保持所述被成膜基材的保持面上所形成的含硅膜。

8.一种膜的形成方法，其特征在于：

其包括使膜沉积在被成膜基材上，进行成膜的工序，

使用权利要求1～6中任一项所述的催化CVD装置进行所述膜的成膜。

9.一种太阳能电池的制造方法，其特征在于：

其包括使膜沉积在被成膜基材上，进行成膜的工序，

使用权利要求1～6中任一项所述的催化CVD装置进行所述膜的成膜。

10.一种基材的保持体，其特征在于：

其用于对设置于反应室内且被加热的催化剂丝供给原料气体，使所生成的分解产物沉积在所述反应室内由保持体所保持的被成膜基材上，进行成膜，

所述保持体具有用于防止从所述催化剂丝放出的辐射线反射的防反射结构。