[发明专利]用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液和使用其的金属微细结构体的制造方法有效
| 申请号： | 201080044583.8 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102575360A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 大户秀;松永裕嗣;山田健二 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/00 | 分类号： | C23F1/00;C23F4/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 抑制 金属 微细 结构 图案 倒塌 处理 使用 制造 方法 | ||
1.一种用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液，其含有选自具有碳原子数12、14或16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或16的烷基的吡啶鎓卤化物、具有碳原子数14、16或18的烷基的卤化铵、具有碳原子数12、14或16的烷基的甜菜碱化合物、具有碳原子数14、16或18的烷基的氧化胺化合物中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液，其中，碳原子数12的烷基为十二烷基，碳原子数14的烷基为十四烷基，碳原子数16的烷基为十六烷基，碳原子数18的烷基为十八烷基。
3.根据权利要求1或2所述的用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液，其还含有水。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液，其中，选自具有碳原子数12、14或16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或16的烷基的吡啶鎓卤化物，具有碳原子数14、16或18的烷基的卤化铵、具有碳原子数12、14或16的烷基的甜菜碱化合物、具有碳原子数14、16或18的烷基的氧化胺化合物中的化合物的含量为10ppm～10％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液，其中，金属微细结构体的图案是使用钨形成的。
6.一种金属微细结构体的制造方法，其特征在于，在湿式蚀刻或干式蚀刻之后的洗涤工序中使用权利要求1～5中任一项所述的处理液。
7.根据权利要求6所述的金属微细结构体的制造方法，其中，金属微细结构体的图案是使用钨形成的。
8.根据权利要求6或7所述的金属微细结构体的制造方法，其中，金属微细结构体为半导体装置或微机械。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社，未经三菱瓦斯化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080044583.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
