[发明专利]用于辐射成像设备的具有反射器的辐射转换元件

权利要求书

1.一种设备，包括：

将辐射转换成光的多个辐射转换元件(32)；以及

环绕所述多个辐射转换元件设置的反射器层(34)。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述多个辐射转换元件包括两个辐射转换元件(32)，并且环绕所述两个辐射转换元件卷裹所述反射器层(34)，其中将所述反射器层的末端(40、42)塞到所述两个辐射转换元件之间。

3.根据权利要求1-2中的任一项所述的设备，其中，所述多个辐射转换元件包括两个辐射转换元件(32)，并将所述反射器层(34)设置为环绕所述两个辐射转换元件的外侧为单层，以及在所述两个辐射转换元件之间为双层。

4.根据权利要求1-3中的任一项所述的设备，其中，环绕所述多个辐射转换元件(32)卷裹所述反射器层(34)，其中所述辐射转换元件和所述反射器层之间不设置粘合剂。

5.根据权利要求1-4中的任一项所述的设备，其中，所述多个辐射转换元件(32)和环绕所述多个辐射转换元件设置的所述反射器层(34)一起限定了构建块(30)，所述设备还包括：

辐射转换元件阵列(70)，其包括按照阵列布置的多个所述构建块(30)。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，在所述辐射转换元件阵列(70)的所述构建块之间设置粘合剂(72、74、76)。

7.根据权利要求1-6中的任一项所述的设备，其中，环绕所述多个辐射转换元件(32)设置的所述反射器层(34)包括：

在所述反射器层(34)环绕所述多个辐射转换元件进行设置时邻近所述辐射转换元件设置的反射率大于90％的光反射层(50)；以及

遮光层(52)。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述遮光层(52)包括铝层。

9.根据权利要求7-8中的任一项所述的设备，其中，所述遮光层(52)还对环绕多个辐射转换元件(32)设置的所述反射器层(34)的反射率存在贡献。

10.根据权利要求7-9中的任一项所述的设备，其中，所述光反射层(50)包括多层聚合物反射器。

11.根据权利要求7-10中的任一项所述的设备，其中，所述遮光层(52)使所述反射器层(34)的设置所环绕的所述多个辐射转换元件(32)之间的光学串扰降低至少15％。

12.根据权利要求1-11中的任一项所述的设备，其中，环绕所述多个辐射转换元件(32)设置的所述反射器层(34)包括刻线(44)，所述刻线限定了环绕所述多个辐射转换元件设置的所述反射器层的弯折部。

13.根据权利要求1-12中的任一项所述的设备，其中，所述反射器层(34)包括突出的间隔体元件或结构，其作用在于确保所述反射器层和所述辐射转换元件(32)之间的空气间隙足以支持在所述辐射转换元件的内表面处的全内反射。

14.根据权利要求1-13中的任一项所述的设备，其中，所述多个辐射转换元件(32)包括多个闪烁体元件，并且所述设备还包括：

与所述多个辐射转换元件(32)光耦合的多个光探测器元件(62)。

15.根据权利要求14所述的设备，其中，所述设备包括正电子发射断层摄影(PET)成像设备(14)，其包括511keV辐射探测器(16)，所述511keV辐射探测器包括所述多个辐射转换元件(32)以及环绕所述多个辐射转换元件设置的所述反射器层(34)。

16.根据权利要求14-15中的任一项所述的设备，其中，使所述多个辐射转换元件中的每个辐射转换元件(32)与所述多个光探测器元件中的一个光探测器元件(62)光耦合。

17.根据权利要求14-16中的任一项所述的设备，其中，所述多个辐射转换元件(32)和环绕所述多个辐射转换元件设置的反射器层(34)一起限定了构建块(30)，并且所述构建块的截面面积等于或小于与所述多个辐射转换元件光耦合的所述多个光探测器元件(32)的截面面积。

18.根据权利要求17所述的设备，其中，所述构建块(30)的所述截面面积等于与所述多个辐射转换元件(32)光耦合的所述多个光探测器元件(62)的所述截面面积。