[发明专利]补充剂组合物和补充预处理组合物的方法

权利要求书

1.一种补充预处理组合物的方法，其包括：

向预处理组合物中添加补充剂组合物，其中所述补充剂组合物包含：

(a)溶解的复合金属氟化物离子，其中所述金属离子包括第IIIA族金属、第IVA族金属、第IVB族金属或它们的组合；和

(b)包括第IIIA族金属、第IVA族金属、第IVB族金属的氧化物、氢氧化物、碳酸盐或它们的组合的组分。

2.权利要求1所述的方法，其中所述补充剂组合物进一步包含(c)溶解的金属离子，其包括第IB族金属、第IIB族金属、第VIIB族金属、第VIII族金属、镧系金属或它们的组合。

3.权利要求1所述的方法，其中所述补充剂组合物中存在的组分(a)和(b)的所有金属离子的至少8重量％是由组分(b)提供的。

4.权利要求1所述的方法，其中所述补充剂组合物的组分(a)包括H₂TiF₆、H₂ZrF₆、H₂HfF₆、H₂SiF₆、H₂GeF₆、H₂SnF₆或它们的组合。

5.权利要求1所述的方法，其中所述组分(b)的金属包括钛、锆、铪、铝、硅、锗、锡或它们的组合。

6.权利要求1所述的方法，其中所述组分(b)包括碱式碳酸锆、氢氧化铝、氧化锡、氢氧化硅或它们的组合。

7.权利要求2所述的方法，其中所述组分(c)的溶解的金属离子包括锰、铈、钴、铜、锌或它们的组合。

8.权利要求1所述的方法，其中在所述补充剂组合物中组分(a)存在的数量为10-92重量％金属离子，基于所述补充剂组合物的组分(a)和(b)的金属离子总重量。

9.权利要求3所述的方法，其中在所述补充剂组合物中组分(b)存在的数量为8-90重量％金属离子，基于所述补充剂组合物的组分(a)和(b)的金属离子总重量。

10.权利要求2所述的方法，其中在所述补充剂组合物中组分(c)以1∶10-10∶1的重量比存在，基于组分(a)和(b)的金属离子总重量对组分(c)的金属离子的总重量。

11.权利要求1所述的方法，其中所述预处理组合物包含：

水和(i)溶解的复合金属氟化物离子，其中所述金属离子包括第IIIA族金属、第IVA族金属、第IVB族金属、第VB族金属或它们的组合。

12.权利要求1所述的方法，其中所述预处理组合物包含：

(i)溶解的复合金属氟化物离子，其中所述金属离子包括第IIIA族金属、第IVA族金属、第IVB族金属、第VB族金属或它们的组合；

(ii)溶解的金属离子，其包括第IB族金属、第IIB族金属、第VIIB族金属、第VIII族金属、镧系金属或它们的组合；和水。

13.权利要求11所述的方法，其中所述预处理组合物的溶解的复合金属氟化物离子(i)与所述补充剂组合物的溶解的复合金属氟化物离子(a)相同。

14.权利要求11所述的方法，其中所述补充剂组合物以足以维持所述预处理组合物的溶解的复合金属氟化物离子(i)的金属离子的浓度在10ppm-250ppm金属离子的量进行添加。

15.权利要求12所述的方法，其中所述预处理组合物的溶解的金属离子(ii)与所述补充剂组合物的溶解的金属离子(c)相同。

16.权利要求11所述的方法，其中所述预处理组合物的溶解的复合金属氟化物离子(i)的金属离子包括钛、锆、铪、硅、锗、锡或它们的组合。

17.权利要求12所述的方法，其中所述预处理组合物的溶解的金属离子(ii)包括锰、铈、钴、铜、锌或它们的组合。