[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：

[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，

[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及

[C]放射线敏感性酸产生剂；

式(1-1)和(1-2)中，R¹各自独立地为氢原子、低级烷基或者卤代低级烷基；

式(1-1)中，Y是(2+d)价的饱和烃基；R²和R³各自独立地为烷基；其中，R²和R³可以相互键合并与Y一起形成脂环式结构；R⁴为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基；R³或R⁴多个存在时，多个R³和R⁴彼此相同或不同；R⁴的氢原子的一部分或者全部可以被取代；a为1或者2；b为0～3的整数；d为1或者2；

式(1-2)中，R⁵为烷基；R⁶为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基；R⁶多个存在时，多个R⁶相同或不同；R⁶的氢原子的一部分或者全部可以被取代；e为1或者2；f为0～5的整数。

2.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，[A]聚合物进一步具有选自分别以下式(2-1)～(2-3)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(II)；

式(2-1)～(2-3)中，R¹为氢原子、低级烷基或者卤代低级烷基；

式(2-1)中，Rf¹是碳原子数为1～30的氟代烃基；

式(2-2)中，R⁷为(g+1)价的连接基团；R⁸为氢原子或者1价的有机基团；R⁸多个存在时，多个R⁸相同或不同；Rf²和Rf³各自独立地为氢原子、氟原子或者碳原子数1～30的氟代烃基；其中，Rf²和Rf³两者不同时为氢原子；Rf²或Rf³多个存在时，多个Rf²和Rf³彼此相同或不同；g为1～3的整数；

式(2-3)中，R⁹为2价的连接基团；R¹⁰为氢原子或者1价的有机基团；Rf⁴和Rf⁵各自独立地为氢原子、氟原子或者碳原子数1～30的氟代烃基；其中，Rf⁴和Rf⁵两者不同时为氢原子。

3.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，[A]聚合物进一步具有包含选自分别以下式(4-1)和(4-2)表示的多个基团中的至少1种基团的结构单元，但不包括所述式(2-3)表示的结构单元；

式(4-1)中，R⁴¹是被氟原子取代的碳原子数为1～10的烃基。

4.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，[A]聚合物相对于100质量份[B]聚合物的含量为0.1质量份～20质量份。