[发明专利]提取代表触摸表面上一个或多个物体的触摸数据无效
申请号: | 201080046836.5 | 申请日: | 2010-10-13 |
公开(公告)号: | CN102648445A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 托马斯·克里斯蒂安松 | 申请(专利权)人: | 平蛙实验室股份公司 |
主分类号: | G06F3/042 | 分类号: | G06F3/042 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 苏蕾;李冬梅 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提取 代表 触摸 表面 上一个 物体 数据 | ||
1.一种用在触摸传感装置内的方法,所述装置包括:定义了一个触摸表面(4)和一个相对表面(5)的一个透光板(1);用于在该板(1)内提供多个光线片层的一种光源安排(2;8),其中所述片层包括通过内反射在该触摸表面(4)和该相对表面(5)之间传播的光;以及用于测量透射光能量的一种光传感器安排(3;9),其中该光源安排(2;8)与该光传感器安排(3;9)被安排成在该触摸表面(4)上定义多条检测线Dj的一个网格,而每条检测线Dj都代表从该光源安排(2;8)到该光传感器安排(3;9)穿过该触摸表面(4)的一条光路,并且其中该触摸传感装置被配置成使得触碰该触摸表面(4)的一个或多个物体(6)会在所述检测线Dj的网格中造成一种局部衰减;所述的方法包括以下步骤:
获取一个输出向量d,该输出向量包含多个信号值dm,这些信号值表示由该光传感器安排(3;9)在一组检测线Dj上所接收的光;
由至少一个二维基函数fv来代表在该触摸表面(4)上的一个二维衰减场,其中这个或每个基函数fv在其二维形状内定义了一个衰减强度;并且
基于所述检测线Dj组到这个或每个基函数fv的一种映射,通过对这个或每个基函数fv的衰减强度与位置中的至少一项进行优化来计算出一个估算衰减场,这样使得该估算衰减场产生该输出向量d;并且
对该估算衰减场进行处理以便提取与所述一个或多个物体(6)相关的触摸数据。
2.如权利要求1所述的方法,其中该衰减场是由多个基函数fv来代表的,这些基函数被安排在该触摸表面(4)上的一个重构网格之中。
3.如权利要求2所述的方法,其中每个基函数fv在该重构网格中有一个给定的位置并且是由一个衰减参数av定义的。
4.如权利要求3所述的方法,其中该衰减参数av是在该形状的中心点处的衰减强度。
5.如权利要求2至4中任意一项所述的方法,其中每个基函数是以该重构网格中的一个对应顶点为中心。
6.如权利要求2至5中任意一项所述的方法,其中该重构网格是三角形的。
7.如权利要求2至6中任意一项所述的方法,其中这些基函数fv具有相同的形状。
8.如权利要求7所述的方法,其中每个基函数fv具有一个六边形的形状。
9.如权利要求2至8中任意一项所述的方法,其中每个基函数fv定义了一个随着距该形状的中心点的距离增加而减小的衰减。
10.如权利要求9所述的方法,其中每个基函数fv在该重构网格中除了一个顶点之外的所有其他地方都具有零衰减。
11.如权利要求3至10中任意一项所述的方法,其中为每个光线片层的这些信号值dm形成一个投影信号Si,该信号表示光在该透光板(1)上的一个外耦合位点(11)内的空间分布,所述方法进一步包括:为每个光线片层识别针对每个基函数fv的一个片层内核kv,其中该片层内核kv被生成为用于代表当该基函数fv衰减了这个光线片层时所造成的投影信号Si。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述映射是针对每条检测线Dj而生成的,这是通过:识别出在该检测线Dj与所述多个基函数fv之间的所有交点;并且针对与该检测线Dj相交的每个基函数fv通过将该交点映射到该片层内核kv上而推导出一个衰减分数值rvj。
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