[发明专利]光学异构体用分离剂有效
| 申请号： | 201080046937.2 | 申请日： | 2010-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN102667466A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 八岛荣次;田村和巳;宫部季隆 | 申请（专利权）人： | 株式会社大赛璐;国立大学法人名古屋大学 |
| 主分类号： | G01N30/88 | 分类号： | G01N30/88;B01J20/281;C07B57/00;C08G61/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张永新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 体用 分离 | ||
1.一种光学异构体用分离剂，其含有具备下述式(1)所示结构的螺旋高分子和负载所述螺旋高分子的载体，且螺旋高分子通过螺旋高分子末端和所述载体表面之间的化学键被负载于载体上，
在式(1)中，Ar独立地表示芳基或杂芳基，R1独立地表示任选具有杂原子、也任选具有芳香环的碳原子数为1~10的有机基团，R2独立地表示碳原子数为1~20的烃基，n表示5以上的整数。
2.根据权利要求1所述的光学异构体用分离剂，其中，所述螺旋高分子为左卷曲。
3.根据权利要求1或2所述的光学异构体用分离剂，其中，式(1)中的氨基酸残基为构型之一的光学活性氨基酸的残基。
4.根据权利要求3所述的光学异构体用分离剂，其中，式(1)中的氨基酸残基为L型氨基酸残基。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的光学异构体用分离剂，其中，式(1)中的氨基酸残基为单一的氨基酸残基。
6.根据权利要求5所述的光学异构体用分离剂，其中，式(1)中的氨基酸残基为L-丙氨酸残基。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的光学异构体用分离剂，其中，Ar为亚苯基。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的光学异构体用分离剂，其中，R2是碳原子数为1~20的直链烷基。
9.根据权利要求8所述的光学异构体用分离剂，其中，R2为正癸基。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的光学异构体用分离剂，其中，所述载体为硅胶。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的光学异构体用分离剂，其中，所述载体为表面经处理的二氧化硅，所述螺旋高分子如下述式(2)所示，
在式(2)中，B独立地表示与载体表面键合的基团，x表示1以上的整数，Ar、R1、R2和n与式(1)相同。
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