[发明专利]用于构造为胶囊填充和封闭机的包装机或用于胶囊控制装置的传感器装置有效

专利信息
申请号: 201080047268.0 申请日: 2010-10-01
公开(公告)号: CN102596148A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: W·伦弗特;R·施米德;G·利布哈尔特;I·马加;M·弗格特 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: A61J3/07 分类号: A61J3/07;B65B1/36
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 侯鸣慧
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 构造 胶囊 填充 封闭 装机 控制 装置 传感器
【权利要求书】:

1.用于构造为胶囊填充和封闭机的包装机(100)或用于胶囊控制装置(100a)的传感器装置(30;30a;30b;30c),该传感器装置包括:定位元件(35;35a),其用于在所述传感器装置(30;30a;30b;30c)的区域中定位以填充物填充的、具有纵轴线(15)的容器(c);和至少一个辐射源(31;31a;31b);以及至少一个检测器(40;40a;40b),其用于检测在透射所述容器(c)之后的辐射,

其特征在于,所述至少一个辐射源(31;31a;31b)垂直于所述容器的纵轴线(15)透射所述容器(c)并且所述定位元件被构造为管形或竖井形的输送元件(35;35a),所述输送元件在所述辐射源(31;31a;31b)的辐射锥(38)中对于辐射是可透过的。

2.根据权利要求1的装置,其特征在于,所述辐射源被构造为X射线辐射源(31;31a;31b)。

3.根据权利要求1或2的装置,其特征在于,多个输送元件(35;35a)相互平行地设置,并且多个输送元件(35;35a)与一个共同的辐射源(31;31a;31b)和一个共同的检测器(40;40a;40b)作用连接地设置。

4.根据权利要求1至3中任一项的装置,其特征在于,所述容器(c)作为列被阻塞地设置在所述输送元件(35;35a)中并且通过所述容器(c)的相互贴靠接触至少在所述传感器装置(30;30a;30b;30c)的区域中被输送。

5.根据权利要求4的装置,其特征在于,所述输送元件(35)设置在用于所述容器(c)的接收段(22;22a)上方,所述容器(c)借助顶出元件(33)从所述接收段推入到所述输送元件(35)中。

6.根据权利要求5的装置,其特征在于,所述输送元件(35)基本上竖直地定向,并且给所述输送元件(35)配置阻挡元件(36),所述阻挡元件阻挡所述容器(c)从所述输送元件(35)掉出。

7.根据权利要求1至6中任一项的装置,其特征在于,所述容器(c)以节拍方式被输送到所述辐射源(31;31a;31b)的区域中,并且所述检测器(40;40a;40b)分别在所述输送元件(35;35a)中的容器(c)的静止阶段中检测辐射。

8.根据权利要求1至7中任一项的装置,其特征在于,在所述传感器装置(30;30a;30b)下游设置一个另外的称量装置(65),所述另外的称量装置具有至少一个用于称量所述容器(c)的称量单元(64)。

9.根据权利要求8的装置,其特征在于,所述称量装置(65)具有一个输送和止动元件(66),该输送和止动元件分别将一个容器(c)从所述输送元件(35)的区域输送到所述称量单元(64)的区域中以及从所述称量单元(64)输送出来。

10.根据权利要求7至9中任一项的装置,其特征在于,借助所述辐射源(31;31a;31b)和所述检测器(40;40a;40b)检测所述容器(c)的填充重量或其它特性。

11.根据权利要求1至10中任一项的装置,其特征在于,所述检测器(40;40a;40b)被构造为图像分析处理式的检测器并且与分析处理装置(47)共同作用,所述分析处理装置能够实现数字的数据分析处理。

12.根据权利要求11的装置,其特征在于,所述至少一个辐射源(31;31a;31b)附加地设置成与参考对象(70)作用连接,并且所述检测器(40;40a;40b)除了所述容器(c)的图像(72,73)之外同时附加地检测所述参考对象(70)的图像(72,73)并且输送给所述分析处理装置(47)。

13.根据权利要求12的装置,其特征在于,所述参考对象(70)由一种材料制成,该材料具有与所述容器(c)至少近似相同的对辐射、尤其是对X射线辐射的吸收特性。

14.根据权利要求12或13的装置,其特征在于,所述参考对象(70)具有对辐射的吸收不同的区域,其中,存在至少一个区域,该区域的吸收在所述容器(c)的待测量的特性的误差内小于所述容器(c)的最小吸收,并且存在一个区域,该区域的吸收在所述容器(c)的待测量的特性的误差内大于所述容器(c)的最大吸收。

15.根据权利要求14的装置,其特征在于,所述参考对象(70)构造为楔形或阶梯形,并且所述参考对象(70)这样地被设置,使得所述参考对象(70)在所述辐射源(31;31a;31b)的辐射方向上的厚度改变。

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