[发明专利]用于光学元件的聚焦补偿及其应用

权利要求书

1.一种光学成像设备，包括：

至少一个晶片级光学元件；

隔离物，所述隔离物耦合到所述至少一个晶片级光学元件；以及

在所述隔离物上的多个聚焦补偿支架，该支架限定光电元件或晶片级光学元件安装表面，所述光电元件或晶片级光学元件安装表面具有与所述隔离物的至少另一个表面粗糙度不同的表面粗糙度。

2.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述多个聚焦补偿支架与所述隔离物连续。

3.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述多个聚焦补偿支架结合到所述隔离物。

4.根据权利要求1所述的光学成像设备，进一步包括耦合到所述光电元件安装表面的光电元件。

5.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述聚焦补偿支架具有多边形形状。

6.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述聚焦补偿支架具有柱形、球形、椭圆或圆锥形状。

7.根据权利要求4所述的光学成像设备，其中，所述至少一个晶片级光学元件的焦点在所述光电元件的表面处或附近。

8.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述聚焦补偿支架被基本上设置在所述隔离物的外围。

9.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述光电元件或晶片级光学元件安装表面具有与在第二方向上的表面粗糙度频率不同的、在第一方向上的表面粗糙度频率。

10.一种晶片，包括：

第一开口；

第一高度的多个第一聚焦补偿支架，所述第一开口和所述第一聚焦补偿支架对应于在光学晶片上的第一光学元件位置；

第二开口；以及

第二高度的多个第二聚焦补偿支架，所述第二开口和所述第二聚焦补偿支架对应于在光学晶片上的第二光学元件位置。

11.根据权利要求10所述的晶片，其中，所述第一高度和所述第二高度不同。

12.根据权利要求10所述的晶片，其中，所述第一高度和所述第二高度相同或基本上相同。

13.一种晶片组件，包括：

光学晶片，所述光学晶片包括光学元件的阵列；

第二晶片，所述第二晶片与所述光学晶片耦合；

第一光学模具，所述第一光学模具位于在所述晶片组件上的第一模具位置处，所述第一光学模具包括在所述光学晶片上的第一光学元件和在所述第二晶片上的多个第一聚焦补偿支架；以及

第二光学模具，所述第二光学模具位于在所述晶片组件上的第二模具位置处，所述第二光学模具包括在所述光学晶片上的第二光学元件和在所述第二晶片上的多个第二聚焦补偿支架。

14.根据权利要求13所述的晶片组件，其中，所述第一聚焦补偿支架具有与所述第二聚焦补偿支架不同的高度。

15.根据权利要求13所述的晶片组件，其中，所述第一聚焦补偿支架具有与所述第二聚焦补偿支架相同或基本上相同的高度。

16.一种组件，包括：

晶片；以及

第一单体化光学模具，所述第一单体化光学模具耦合到所述晶片，所述第一单体化光学模具包括第一光学元件、第一隔离物和多个第一聚焦补偿支架。

17.根据权利要求16所述的组件，进一步包括第二单体化光学模具，所述第二单体化光学模具耦合到所述晶片，所述第二单体化光学模具包括第二光学元件、第二隔离物和多个第二聚焦补偿支架。

18.一种用于生产光学成像设备的方法，包括：

提供至少一个晶片级光学元件；

确定所述至少一个晶片级光学元件的焦距；

将隔离物耦合到所述至少一个晶片级光学元件；

在所述隔离物上设置多个支架；

对于所述至少一个晶片级光学元件计算相对于像平面的聚焦补偿；并且，

调整所述支架的高度以将所述至少一个晶片级光学元件的焦点设置在所述像平面处或附近。

19.根据权利要求18所述的方法，进一步包括：将所述光电元件耦合到所述支架的安装表面。