[发明专利]用于提高衬底载体的性能的方法

权利要求书

1.一种修改衬底载体以提高处理性能的方法，所述方法包括：

a.在由衬底载体支撑的衬底上沉积至少一层；

b.根据其在衬底载体上的对应位置测量所述至少一层的参数；

c.使与衬底载体上的多个位置中的至少一些对应的测量的参数与衬底载体的物理性质关联，以获得与衬底载体上的多个位置对应的衬底载体的多个物理性质；和

d.在衬底载体上的多个对应位置中的一个或更多个处修改衬底载体的物理性质，以根据衬底载体上的位置获得至少一个沉积的层的期望的参数。

2.根据权利要求1的方法，其中，衬底载体由石墨、SiC、金属和陶瓷材料中的至少一种形成。

3.根据权利要求1的方法，其中，衬底由半导体、金属和绝缘体材料中的至少一种形成。

4.根据权利要求1的方法，其中，使在衬底上沉积的所述至少一层的测量的参数与衬底载体的物理性质关联包括使用数学模型。

5.根据权利要求1的方法，其中，使在衬底上沉积的所述至少一层的测量的参数与衬底载体的物理性质关联包括与经验数据关联。

6.根据权利要求1的方法，其中，衬底载体的物理性质包括衬底载体的局部深度。

7.根据权利要求1的方法，其中，衬底载体的物理性质包括衬底载体的局部热导率。

8.根据权利要求1的方法，其中，衬底载体的物理性质包括衬底载体的局部发射率。

9.根据权利要求1的方法，其中，衬底载体的物理性质包括衬底载体的局部机械特性。

10.根据权利要求1的方法，其中，参数包括性能指标。

11.根据权利要求1的方法，其中，参数是在衬底上沉积的所述至少一层的光学参数。

12.根据权利要求1的方法，其中，参数是在衬底上沉积的所述至少一层的电气参数。

13.根据权利要求1的方法，其中，参数是在衬底上沉积的所述至少一层的电光参数。

14.根据权利要求1的方法，其中，关联与衬底载体上的多个对应位置中的至少一些相关的测量的参数包括使特定位置中的所述至少一层的发射波长与衬底载体的对应局部深度关联。

15.根据权利要求1的方法，其中，根据位置修改衬底载体的物理性质包括在衬底载体上的多个对应位置中的至少一个中从衬底载体去除材料。

16.根据权利要求15的方法，其中，通过加工、激光烧蚀、化学蚀刻和静电放电中的至少一种在衬底载体上的对应位置中的至少一个中从衬底载体去除材料。

17.根据权利要求1的方法，其中，修改衬底载体的物理性质包括向衬底载体添加材料。

18.根据权利要求1的方法，其中，修改衬底载体的物理性质包括在衬底载体的局部区域中改变热导率。

19.根据权利要求18的方法，其中，通过将材料插入局部区域中而在局部区域中改变热导率。

20.根据权利要求18的方法，其中，通过在局部区域处执行材料处理而在局部区域中改变热导率。

21.根据权利要求1的方法，其中，修改衬底载体的物理性质包括在衬底载体的局部区域中改变发射率。

22.根据权利要求1的方法，其中，修改衬底载体的物理性质包括在衬底载体的局部区域中改变局部机械特性。

23.一种用于提高衬底载体的性能指标的方法，所述方法包括：

a.制造用于支撑用于材料处理的衬底的衬底载体，其中，衬底载体具有根据位置的物理性质；

b.在由衬底载体支撑的衬底上沉积至少一层；

c.根据其在衬底载体上的对应位置测量在衬底上沉积的所述至少一层的性能指标；

d.使与衬底载体上的至少一些位置对应的测量的性能指标与衬底载体的物理性质关联，以获得与衬底载体上的多个位置对应的衬底载体的多个物理性质；和

e.在衬底载体上的多个对应位置中的一个或更多个处修改衬底载体的物理性质，以根据衬底载体上的位置获得沉积的所述至少一层的期望的性能指标。