[发明专利]模具和模具的制造方法以及防反射膜

权利要求书

1.一种模具的制造方法，上述模具在表面具有反转的蛾眼结构，上述反转的蛾眼结构具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部，上述模具的制造方法包含如下工序：

(a)准备铝膜的工序，上述铝膜沉积于基材上，厚度大于等于0.5μm小于等于5μm，在表面存在晶粒粒径的平均值大于等于200nm小于等于5μm的多个晶粒；

(b)在上述工序(a)之后，对上述铝膜的表面进行阳极氧化，由此形成具有多个微细凹部的多孔氧化铝层的工序；以及

(c)在上述工序(b)之后，使上述多孔氧化铝层与蚀刻液接触，由此使上述多孔氧化铝层的上述多个微细凹部扩大的工序。

2.一种模具的制造方法，上述模具在表面具有反转的蛾眼结构，上述反转的蛾眼结构具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部，上述模具的制造方法包含如下工序：

(a)准备铝膜的工序，上述铝膜沉积于基材上，厚度大于等于0.5μm小于等于5μm，在表面存在晶粒粒径的分布具有两个极大值、大的极大值大于等于200nm的多个晶粒；

(b)在上述工序(a)之后，对上述铝膜的表面进行阳极氧化，由此形成具有多个微细凹部的多孔氧化铝层的工序；以及

(c)在上述工序(b)之后，使上述多孔氧化铝层与蚀刻液接触，由此使上述多孔氧化铝层的上述多个微细凹部扩大的工序。

3.根据权利要求1或2所述的模具的制造方法，上述多个晶粒的粒径分布在比上述晶粒粒径的平均值±50nm宽的范围扩展。

4.根据权利要求2或3所述的模具的制造方法，

上述多个晶粒的晶粒粒径的平均值大于等于200nm小于等于5μm，

上述多个晶粒的粒径分布的大的极大值大于等于400nm。

5.根据权利要求2至4中的任一项所述的模具的制造方法，

当将上述多个晶粒的粒径分布的大的极大值设为R1、将上述多个晶粒的粒径分布的小的极大值设为R2时，

上述多个晶粒包含大于等于5％的粒径比R1-{(R1-R2)/2}大的晶粒。

6.根据权利要求2至5中的任一项所述的模具的制造方法，上述铝膜的上述表面的n点平均粗糙度(Rz)大于等于100nm。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的模具的制造方法，

还包含工序(d)：进一步对上述铝膜的上述表面进行阳极氧化，由此使上述多个微细凹部生长，

在上述工序(c)之后进一步进行上述工序(d)和(c)。

8.一种模具，

在表面具有多孔氧化铝层，

上述多孔氧化铝层具有：反转的蛾眼结构，其具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部；以及多个凸部，其从表面的法线方向观看时的二维大小的平均值大于等于200nm小于等于5μm。

9.一种模具，

在表面具有多孔氧化铝层，

上述多孔氧化铝层具有：反转的蛾眼结构，其具有从表面的法线方向观看时的二维大小大于等于50nm小于500nm的多个凹部；以及多个凸部，其从表面的法线方向观看时的二维大小的分布具有两个极大值，大的极大值大于等于200nm。

10.根据权利要求8或9所述的模具，

上述多个凸部的二维大小的分布在比上述多个凸部的二维大小的平均值±50nm宽的范围扩展。

11.根据权利要求9或10所述的模具，

上述多个凸部的二维大小的平均值大于等于200nm小于等于5μm，

上述多个凸部的二维大小的分布的大的极大值大于等于400nm。

12.根据权利要求9至11中的任一项所述的模具，

当将上述多个凸部的二维大小的分布的大的极大值设为L1、将上述多个凸部的二维大小的分布的小的极大值设为L2时，

上述多个凸部包含大于等于5％的二维大小比L1-{(L1-L2)/2}大的凸部。

13.一种防反射膜，具有将权利要求8至12中的任一项所述的模具的表面的凹凸结构反转后的凹凸结构。

14.根据权利要求13所述的防反射膜，积分球反射率小于0.3％、雾度值大于等于1％小于等于5％。