[发明专利]保护膜形成用化学溶液

权利要求书

1.一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其为在清洗表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片时，用于在至少所述凹部表面形成拒水性保护膜的化学溶剂，该化学溶剂包含拒水性保护膜形成剂，该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，所述非水溶性的表面活性剂基于Griffin法的HLB值为0.001～10。

3.根据权利要求1或2所述的晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，所述非水溶性的表面活性剂为选自由以下的通式[1]所表示的化合物、通式[2]所表示的化合物及其盐化合物组成的组中的至少1种表面活性剂，

式[1]中，R¹为包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团，U表示选自由氟基、氯基、溴基以及碘基组成的组中的基团，

R²R³R⁴N    [2]

式[2]中，R²为包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团，R³为氢原子、或者包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团，R⁴为氢原子、或者包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，所述非水溶性的表面活性剂为选自由以下化合物组成的组中的至少1种表面活性剂：所述通式[1]表示的非水溶性的表面活性剂中的R¹为包含碳原子数8～18的烃基的1价有机基团的化合物；所述通式[2]表示的非水溶性的表面活性剂中的R²为包含碳原子数6～18的烃基的1价有机基团、R³为氢原子或者包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、R⁴为氢原子或者包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团的化合物；及其盐化合物。

5.根据权利要求1或2所述的晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，所述非水溶性的表面活性剂为选自由以下的通式[3]～[6]所表示的化合物组成的组中的至少1种表面活性剂，

式[3]中，R⁵为包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团，V表示氧原子或硫原子，W表示选自由氢原子、烷基、芳香族基团、吡啶基、喹啉基、琥珀酰亚胺基、马来酰亚胺基、苯并噁唑基、苯并噻唑基以及苯并三唑基组成的组中的基团，这些基团中的氢原子可以被有机基团取代，

R⁶(X)_a    [4]

式[4]中，X为异氰酸酯基、巯基或者醛基，a为1～6的整数，R⁶为包含碳原子数1～18的烃基的有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的有机基团，该化合物是由所述的a个异氰酸酯基、巯基或者醛基取代相同数目的氢原子而得到的化合物，

R⁷-Y    [5]

式[5]中，Y为包含硫元素的环结构，R⁷为选自由氢原子、包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、以及包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团组成的组中的基团，

式[6]中，R⁸为包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团，R⁹为包含碳原子数1～18的烃基的1价有机基团、或者包含碳原子数1～8的氟烷基链的1价有机基团，Z表示氧原子或硫原子。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，所述拒水性保护膜形成用化学溶液中含有稀释溶剂。