[发明专利]具有低反射和高接触角的基板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有低反射和高接触角的基板及其制备方法。本申请要求2009年10月29日向韩国专利局提交的韩国专利申请No.10-2009-0103694的优先权，该专利申请的公开内容通过引用的方式全部纳入这里。

背景技术

一般而言，光学产品会产生清晰反射的图像，例如鬼线和闪耀，而不会产生清晰的能见度。因此，在基板上形成防反射层，以获得清晰反射的图像和清晰的能见度。该防反射层一般由具有高硬度和低折射率的二氧化硅或氟化镁制成。

然而，当表面上包括由二氧化硅或氟化镁制成的防反射层的光学产品用水进行清洗、但没有充分擦拭而自然放置以进行干燥时，所述防反射层被斑点例如表面上残留的水(所谓的“水印”)玷污，于是，能见度劣化。为了防止这种斑点，可以使用可固化聚硅氧烷和具有斥水性能的硅烷化合物等在防反射层的表面上进行斥水处理。

如上所述，一般通过在平坦基底上涂布折射率匹配材料以获得防反射性能和涂布斥水材料以获得斥水性能来制备具有防反射性和斥水性的光学产品。

然而，为了获得防反射性能和斥水性能，需要重复涂布多个具有防反射性能和斥水性能的薄膜层，且尽管在防反射层上涂布斥水材料，仍难以获得接触角为120°或大于120°的基板。另外，为了在宽波长范围内减少反射，需要使用进行多次防反射涂布的多涂布法，但由于涂布成本的增加，这成为产品成本增加的重要因素。

发明内容

技术问题

为了提供防反射性能和斥水性能均优异且制备工艺简单的基板和包括该基板的光学产品，产生了本发明。

技术方案

为了实现所述目的，本发明的示例性实施方案提供一种基板，其包括：

1)基底，该基底的至少一面上具有图案，其中，根据该图案的形状，该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同；和

2)斥水涂层，该斥水涂层设置在上述基底的至少一个具有图案的面上。

另外，本发明的另一个示例性实施方案提供了一种基板的制备方法，该方法包括：

a)在基底的至少一面上形成图案，该图案所具有的形状使得该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同；和

b)在上述基底的至少一个具有图案的面上形成斥水涂层。

在所述基板的制备方法中，在步骤a)中可以使用干涉光刻法以在基底上形成图案。

另外，本发明的另一个示例性实施方案提供了一种包括根据本发明的基板的光学产品。

有益效果

根据本发明的示例性实施方案，在不进行多个薄膜的涂布或形成单独的防反射层的情况下，可以提供一种具有小于2％的透光率和120°或大于120°的高接触角的基板，且该基板的加工效率优异。

附图说明

图1是示意图，示出了根据本发明的基板结构中基底和斥水涂层之间的折射率的变化；

图2是CCD相机照片，示出了实施例1和对比例1中的基板的接触角；

图3是曲线图，示出了实施例2和对比例2中的基板的反射率；

图4是照片，示出了在实施例3中制备的基板中的基底上形成的图案；

图5是曲线图，示出了实施例3～5和对比例3～5中制备的基板的反射率。

具体实施方式

在下文中，将详细描述本发明。

本发明的一个示例性实施方案包括：

1)基底，该基底的至少一面上具有图案，并且根据所述图案的形状在该图案的下部区域和在该图案的上部区域具有不同的折射率；和

2)斥水涂层，该斥水涂层设置在上述基底的至少一个具有图案的面上。

在本说明书中，所述图案的下部区域和上部区域是指相对位置，并且所述图案的下部区域是指接近基底的平坦表面的区域，所述图案的上部区域是指相对远离基底的平坦表面且接近空气层的区域。

在本发明中，通过在基底上形成图案，折射率可以朝着所述图案的下部区域逐渐变化以至于与基底的折射率相同，从而使反射最小化。在本发明中，对基底上图案的形状进行控制，使得在基底的具有图案的表面上折射率可以改变，从而使反射最小化。