[发明专利]用于制造LED用蓝宝石单晶基板的蓝宝石单晶、LED用蓝宝石单晶基板、发光元件以及它们的制造方法无效
申请号: | 201080051654.7 | 申请日: | 2010-11-25 |
公开(公告)号: | CN102612575A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 楠木克辉 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C30B29/20 | 分类号: | C30B29/20;C30B15/04;C30B33/02;H01L21/20;H01L33/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 led 蓝宝石 单晶基板 发光 元件 以及 它们 方法 | ||
1.一种用于制造LED用蓝宝石单晶基板的蓝宝石单晶,其特征在于,Ti含量为超过12ppm且100ppm以下。
2.一种LED用蓝宝石单晶基板,其特征在于,Ti含量为超过12ppm且100ppm以下。
3.一种发光元件,其特征在于,在权利要求2所述的蓝宝石单晶基板上形成有GaN系半导体层。
4.一种LED用蓝宝石单晶基板的制造方法,其特征在于,将Ti含量为超过12ppm且2500ppm以下的范围的氧化铝熔融,
一边使所述熔融的氧化铝旋转一边提拉,从而形成蓝宝石单晶的锭的肩部、直体部及尾部,
从所述锭切取蓝宝石单晶基板,
对所述切取的蓝宝石单晶基板进行热处理,然后对其表面进行镜面加工,
在所述镜面加工后的蓝宝石单晶基板表面上形成凹凸。
5.一种LED用蓝宝石单晶基板的制造方法,其特征在于,其包括对蓝宝石单晶基板进行热处理使其透明化的工序,所述基板的Ti含量为超过12ppm且100ppm以下的范围,作为其他杂质元素,以1ppm~0.01ppm的范围含有选自由V、Mg、Ga、Ir、Si、Na、B及P组成的组中的至少1种元素。
6.一种发光元件的制造方法,其特征在于,
在通过权利要求4所述的LED用蓝宝石单晶基板的制造方法制造的LED用蓝宝石单晶基板上形成由AlN构成的缓冲层,
通过有机金属化学气相沉积法在所述缓冲层上形成由GaN系化合物半导体构成的基底层、n型半导体层、发光层及p型半导体层,
在所述p型半导体层上形成正极,在所述n型半导体层上形成负极。
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