[发明专利]用于制造LED用蓝宝石单晶基板的蓝宝石单晶、LED用蓝宝石单晶基板、发光元件以及它们的制造方法无效

专利信息
申请号: 201080051654.7 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN102612575A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 楠木克辉 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: C30B29/20 分类号: C30B29/20;C30B15/04;C30B33/02;H01L21/20;H01L33/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 制造 led 蓝宝石 单晶基板 发光 元件 以及 它们 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造LED用蓝宝石单晶基板的蓝宝石单晶,其特征在于,Ti含量为超过12ppm且100ppm以下。

2.一种LED用蓝宝石单晶基板,其特征在于,Ti含量为超过12ppm且100ppm以下。

3.一种发光元件,其特征在于,在权利要求2所述的蓝宝石单晶基板上形成有GaN系半导体层。

4.一种LED用蓝宝石单晶基板的制造方法,其特征在于,将Ti含量为超过12ppm且2500ppm以下的范围的氧化铝熔融,

一边使所述熔融的氧化铝旋转一边提拉,从而形成蓝宝石单晶的锭的肩部、直体部及尾部,

从所述锭切取蓝宝石单晶基板,

对所述切取的蓝宝石单晶基板进行热处理,然后对其表面进行镜面加工,

在所述镜面加工后的蓝宝石单晶基板表面上形成凹凸。

5.一种LED用蓝宝石单晶基板的制造方法,其特征在于,其包括对蓝宝石单晶基板进行热处理使其透明化的工序,所述基板的Ti含量为超过12ppm且100ppm以下的范围,作为其他杂质元素,以1ppm~0.01ppm的范围含有选自由V、Mg、Ga、Ir、Si、Na、B及P组成的组中的至少1种元素。

6.一种发光元件的制造方法,其特征在于,

在通过权利要求4所述的LED用蓝宝石单晶基板的制造方法制造的LED用蓝宝石单晶基板上形成由AlN构成的缓冲层,

通过有机金属化学气相沉积法在所述缓冲层上形成由GaN系化合物半导体构成的基底层、n型半导体层、发光层及p型半导体层,

在所述p型半导体层上形成正极,在所述n型半导体层上形成负极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昭和电工株式会社,未经昭和电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080051654.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top