[发明专利]化合物有效
申请号: | 201080052079.2 | 申请日: | 2010-11-18 |
公开(公告)号: | CN102712664A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 新海征治;原口修一;白木智丈;小川雅司;中谷修平;坂上惠;后藤修;柿本秀信 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社;住友化学株式会社 |
主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18;G03F7/004 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 | ||
1.一种化合物,其特征在于,
利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得,所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团,所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。
2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于,
化合物(A)中所含的感光性基团包含双键或芳香族稠环。
3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于,
化合物(B)中所含的感光性基团包含双键或芳香族稠环。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的化合物,其中,
化合物(A)是以式(1-1)表示的化合物;
[化1]
式中,Ra各自独立,表示氢原子或取代基;另外,任意的相邻的2个Ra也可以相互连结,形成选自饱和烃环、不饱和烃环、芳香族烃环及杂环中且可以具有取代基的环;其中,Ra的至少1个是具有亲液性的基团;n1表示0以上的整数。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的化合物,其中,
化合物(A)是以式(1-2)表示的化合物;
[化2]
式中,Ra各自独立,表示氢原子或取代基;X1及Y1既可以相同也可以不同,表示-C(Ra)2-、-N(Ra)-、-O-、-S-、-Si(Ra)2-、-B(Ra)-或-C(Ra)=C(Ra)-;另外,任意的相邻的2个Ra也可以相互连结,形成选自饱和烃环、不饱和烃环、芳香族烃环及杂环中且可以具有取代基的环;其中,Ra的至少1个是具有亲液性的基团;p1及m1相同或不同,表示0以上的整数。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的化合物,其中,
具有亲液性的基团是包含属于周期表的第4族、第5族、第6族、第13族、第14族、第15族或第16族的原子的基团。
7.根据权利要求6所述的化合物,其中,
具有亲液性的基团是包含硅原子的基团。
8.根据权利要求7所述的化合物,其中,
具有亲液性的基团是以式(1-3)表示的基团;
[化3]
式中,Z表示-C(=O)O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-、-C(=O)-、-N(Rc)-、-C(=O)N(Rc)-、-N(Rc)C(=O)-、-N(Rc)C(=O)N(Rc)-、-Ak-C(=O)O-、-Ak-OC(=O)-、-Ak-OC(=O)O-、-Ak-C(=O)-、-Ak-N(Rc)-、-Ak-C(=O)N(Rc)-、-Ak-N(Rc)C(=O)-、-Ak-N(Rc)C(=O)N(Rc)-、-O-、-S-或-Ak-,Ar1表示(1+y1)价的芳香族烃基或(1+y1)价的杂环基,Ak表示碳数1~12的亚烷基,Ra1表示氢原子、卤素原子、羟基、烷氧基或烷基,Rc表示氢原子或取代基;在具有多个Rc的情况下,它们既可以相同也可以不同;t1表示0或1,x1表示0或1,y1表示1以上的整数;具有多个的Ra1既可以相同也可以不同;在具有多个Ak的情况下,它们既可以相同也可以不同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社;住友化学株式会社,未经松下电器产业株式会社;住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080052079.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。