[发明专利]包括多孔涂层的隔膜的制造方法,由该方法制造的隔膜以及包括该隔膜的电化学设备有效

专利信息
申请号: 201080053007.X 申请日: 2010-11-23
公开(公告)号: CN102668172A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 李柱成;辛秉镇;金钟勋 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: H01M2/16 分类号: H01M2/16;H01M2/14
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 苏萌;钟守期
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 包括 多孔 涂层 隔膜 制造 方法 以及 电化学 设备
【权利要求书】:

1.一种隔膜的制造方法,包括:

(S1)形成第一多孔涂层的步骤,其将分散有无机颗粒并在溶剂中溶解有粘合剂聚合物的稀浆涂布于多孔基材的至少一个表面而形成;和

(S2)形成第二多孔涂层的步骤,其通过在所述第一多孔涂层的外表面电喷射聚合物溶液而形成。

2.根据权利要求1所述的隔膜的制造方法,其中所述多孔基材由聚烯烃制得。

3.根据权利要求2所述的隔膜的制造方法,其中所述聚烯烃选自聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯和聚戊烯。

4.根据权利要求1所述的隔膜的制造方法,其中所述无机颗粒选自介电常数为5或更大的无机颗粒、具有传输锂离子能力的无机颗粒、及其混合物。

5.根据权利要求4所述的隔膜的制造方法,其中所述介电常数为5或更大的无机颗粒选自BaTiO3、Pb(Zr,Ti)O3(PZT)、Pb1-xLaxZr1-yTiyO3(PLZT,0<x<1,0<y<1)、Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-PbTiO3(PMN-PT)、氧化铪(HfO2)、SrTiO3、SnO2、CeO2、MgO、NiO、CaO、ZnO、ZrO2、SiO2、Y2O3、Al2O3、SiC、TiO2颗粒,或其两种以上的混合物。

6.根据权利要求4所述的隔膜的制造方法,其中所述具有传输锂离子能力的无机颗粒选自磷酸锂(Li3PO4)、磷酸钛锂(LixTiy(PO4)3,0<x<2,0<y<3)、磷酸钛铝锂(LixAlyTiz(PO4)3,0<x<2,0<y<1,0<z<3)、(LiAlTiP)xOy基玻璃(0<x<4,0<y<13)、钛酸镧锂(LixLayTiO3,0<x<2,0<y<3)、硫代磷酸锗锂(LixGeyPzSw,0<x<4,0<y<1,0<z<1,0<w<5)、氮化锂(LixNy,0<x<4,0<y<2)、SiS2基玻璃(LixSiySz,0<x<3,0<y<2,0<z<4)、P2S5基玻璃(LixPySz,0<x<3,0<y<3,0<z<7)颗粒,及其两种以上的混合物。

7.根据权利要求1所述的隔膜的制造方法,其中所述粘合剂聚合物选自聚偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物、聚偏氟乙烯-三氯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸丁酯、聚丙烯腈、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚环氧乙烷、聚芳基化物、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素、氰乙基支链淀粉、氰乙基聚乙烯醇、氰乙基纤维素、氰乙基蔗糖、支链淀粉、羧甲基纤维素、分子量为10,000g/mol或更小的化合物,及其两种以上的混合物。

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