[发明专利]倾斜磁场线圈、核磁共振成像装置以及线圈图形的设计方法有效
申请号: | 201080053503.5 | 申请日: | 2010-11-26 |
公开(公告)号: | CN102665543A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 阿部充志 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立医疗器械 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;郭凤麟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 倾斜 磁场 线圈 核磁共振成像 装置 以及 图形 设计 方法 | ||
1.一种倾斜磁场线圈,其特征在于,
具有:筒状的第一线圈,其在核磁共振成像装置的成像区域中产生线形的磁场分布;
筒状的第二线圈,其被配置在所述第一线圈的外侧,在所述成像区域中产生均匀的磁场分布的静磁场的静磁场线圈装置的内侧,抑制从所述第一线圈向所述静磁场线圈装置的泄漏磁场,
所述第二线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状为圆形,所述第一线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状为非圆形,
在所述第一线圈以及/或所述第二线圈的线圈图形中多重配置的多个匝中,存在具有向内侧凸出的区域的所述匝。
2.一种倾斜磁场线圈,其特征在于,
具有:筒状的第一线圈,其在核磁共振成像装置的成像区域中产生线形的磁场分布;
筒状的第二线圈,其被配置在所述第一线圈的外侧,在所述成像区域中产生均匀的磁场分布的静磁场的静磁场线圈装置的内侧,抑制从所述第一线圈向所述静磁场线圈装置的泄漏磁场,
所述第二线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状大体为圆形,所述第一线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状为非圆形,
多重地配置所述第一线圈以及/或所述第二线圈,存在在与轴向不同的方向上倾斜的两个倾斜磁场线圈的第一线圈和第二线圈的匝数的差。
3.一种倾斜磁场线圈,其特征在于,
具有:筒状的第一线圈,其在核磁共振成像装置的成像区域中产生线形的磁场分布;
筒状的第二线圈,其被配置在所述第一线圈的外侧,在所述成像区域中产生均匀的磁场分布的静磁场的静磁场线圈装置的内侧,抑制从所述第一线圈向所述静磁场线圈装置的泄漏磁场,
所述第二线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状大体为圆形,所述第一线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状为非圆形,
多重地配置所述第一线圈以及/或所述第二线圈,在与轴向不同的方向上倾斜的两个倾斜磁场线圈的第一线圈和第二线圈的螺旋状的形状上,从第二线圈的中心开始第二个匝的椭圆度相差20%以上。
4.根据权利要求1~3的任意一项所述的倾斜磁场线圈,其特征在于,
所述第一线圈的与所述筒状的轴垂直的截面的形状为椭圆形状、大体四角形状、赛道形状、大体三角形中的任意一种,横水平方向的宽度大于上下重力方向的宽度。
5.一种倾斜磁场线圈,其特征在于,
具有:筒状的第一线圈,其在核磁共振成像装置的成像区域中产生线形的磁场分布;
筒状的第二线圈,其被配置在所述第一线圈的外侧,在所述成像区域中产生均匀的磁场分布的静磁场的静磁场线圈装置的内侧,抑制从所述第一线圈向所述静磁场线圈装置的泄漏磁场,
在所述第一线圈以及/或所述第二线圈的线圈图形中多重配置的多个匝通过搭接线将相邻的匝彼此连接,返回线与内侧的匝连接,与所述返回线交叉的搭接线部分蜿蜒。
6.一种倾斜磁场线圈,其特征在于,
具有:筒状的第一线圈,其在核磁共振成像装置的成像区域中产生线形的磁场分布;
筒状的第二线圈,其被配置在所述第一线圈的外侧,在所述成像区域中产生均匀的磁场分布的静磁场的静磁场线圈装置的内侧,抑制从所述第一线圈向所述静磁场线圈装置的泄漏磁场,
在所述第一线圈以及/或所述第二线圈的线圈图形中多重配置的多个匝通过搭接线将相邻的匝彼此连接,返回线与内侧的匝连接,与所述返回线交叉的搭接线部分的宽度是所述返回线的宽度的4倍以上10倍以下。
7.一种倾斜磁场线圈,其特征在于,
具有:筒状的第一线圈,其在核磁共振成像装置的成像区域中产生线形的磁场分布;
筒状的第二线圈,其被配置在所述第一线圈的外侧,在所述成像区域中产生均匀的磁场分布的静磁场的静磁场线圈装置的内侧,抑制从所述第一线圈向所述静磁场线圈装置的泄漏磁场,
在所述第一线圈以及/或所述第二线圈的线圈图形中多重配置的匝与供电线和返回线连接,与相互邻接配置的所述供电线和所述返回线交叉的所述匝的一区间迂回。
8.一种核磁共振成像装置,其特征在于,具有:
权利要求1~3的任意一项所述的倾斜磁场线圈;以及
与所述倾斜磁场线圈邻接配置的所述静磁场线圈装置。
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