[发明专利]环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法有效
申请号: | 201080053806.7 | 申请日: | 2010-11-25 |
公开(公告)号: | CN102666461A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 高须贺大晃;越后雅敏;冈田悠 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C43/253 | 分类号: | C07C43/253;C07C41/30;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027;C07B61/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 环状 化合物 生产 方法 放射线 敏感性 组合 图案 形成 | ||
1.一种环状化合物,其由下式(1)表示:
(式(1)中,R12独立地为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基或者氢原子组成的组的官能团;(在这方面,它们中R12的至少之一为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团)
X独立地为选自由氢原子、1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基团、卤素原子、羧基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团;
R’独立地为选自由1至20个碳的烷基、具有羧基的1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、具有羧基的3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团;(在这方面,R’的至少之一为具有羧基和/或羟基的1至20个碳的烷基、具有羧基和/或羟基的3至20个碳的环烷基,或者由下式表示的基团:
其中,R4为选自由1至14个碳的烷基、3至14个碳的环烷基、6至14个碳的芳基、1至14个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基、1至14个碳的烷基甲硅烷基和2至14个碳的烷基酯基组成的组的官能团,R4的至少之一为羟基或羧基,p为1至5的整数。))
2.根据权利要求1所述的环状化合物,其中所述环状化合物为由上式(1)表示的化合物,式(1)中,R12的至少之一为选自由6至20个碳的烷基、6至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团,R12的至少另一个为氢原子。
3.根据权利要求1所述的环状化合物,其中所述环状化合物为由下式(3)表示的化合物:
(式(3)中,R12和p与上述相同。)
4.根据权利要求3所述的环状化合物,其中所述环状化合物由下式(3-1)至(3-4)的任一种异构体表示:
(式(3-1)至(3-4)中,R12和p与上述相同。)
5.根据权利要求3所述的环状化合物,其中所述环状化合物由下式(3’-1)至(3’-4)的任一种异构体表示:
(式(3’-1)至(3’-4)中,R4和p与上述相同;R5为选自由1至3个碳的烷基、3至6个碳的环烷基、6至14个碳的芳基、1至14个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基和1至14个碳的烷基甲硅烷基,或者氢原子组成的组的官能团,q为0至2的整数。)
6.一种由式(1)表示的环状化合物(A)的生产方法,所述方法包括将选自由芳香族羰基化合物(A1)组成的组的一种或多种和选自由酚类化合物(A2)组成的组的一种或多种进行缩合反应的步骤。
7.根据权利要求6所述的生产方法,其中反应温度为0至60℃。
8.一种放射线敏感性组合物,其包含根据权利要求1所述的环状化合物和溶剂。
9.根据权利要求8所述的放射线敏感性组合物,其包括1至80重量%的固体组分和20至99重量%的溶剂。
10.根据权利要求8或9所述的放射线敏感性组合物,其中所述环状化合物为固体组分总重量的50至99.999重量%。
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