[发明专利]去四烷基铵离子废液的再利用方法

说明书

技术领域

本发明是涉及一种自含有四烷基铵离子（以下，称为TAA离子）废液中回收氢氧化四烷基铵（以下，称为TAAH）的时候所被排出的去TAA离子废液予以再利用的方法。

背景技术

半导体及液晶制造工程中的显影工程按以下的步骤进行。首先，在晶圆、玻璃等的基板上形成图案时，在基板表面形成的金属层上涂布由酚醛清漆树脂或聚苯乙烯树脂等组成的负片型或正片型的阻剂。接着，在涂布有上述阻剂的基板上，透过用于形成上述图案的光罩进行曝光。接下来，对上述阻剂的未硬化部分或者是硬化部分，使用以TAAH为主成分的显影液进行显影之后再进行蚀刻，从而在上述金属层上形成图案。因此，在上述显影工程中，会排出含有TAA离子的显影废液。

此外，在利用显影液进行显影后，为了除去基板上残存的显影液，会以超纯水进行洗净，即所谓的润洗工程，在进行上述润洗工程后，会排出含有TAA离子的润洗废液。此些显影废液及润洗废液通常是在分别进行混合后，再作为含有TAA离子废液被排出。近年来，随着半导体及液晶的生产量增大，上述显影液及润洗液的消耗量随之增加，因而此些含有TAA离子废液的排出量也跟着增加。最近，提出一种回收含有TAA离子废液的方法，自含有TAA离子的废液中回收TAAH，并精制含有TAA离子的废液后再予以再利用。

自半导体及液晶制造工程所排出的含有TAA离子的废液中，除TAA离子外，尚含有溶解于上述废液中的酚醛清漆树脂、聚苯乙烯树脂等的光阻成分、微量有机溶媒以及微量表面活性剂等有机物（以下，仅总称为有机物）、在基板表面的金属层或上述制造工程中自配管材料溶出的微量金属成分。

于此，作为含有TAA离子废液的回收方法，提出了一种回收TAAH的方法（参照专利文献1），通过使含有TAA离子废液与阳离子交换材料接触，并藉由使TAA离子吸附于阳离子交换材料，而回收上述废液中的TAA离子，接着使酸与阳离子交换材料接触，使TAA盐类溶离后，将TAA盐类供给至电化学电解槽。

[先行技术文献]

(专利文献1)日本特表2002-509029

发明内容

技术问题

在上述专利文献1所记载的方法中，经由TAA离子吸附于阳离子交换材料及TAA离子自阳离子交换材料溶离，使所得溶离液中的TAA离子浓度增加。因此，由于上述方法也同时对TAA离子进行浓缩，故在以电化学电解槽回收TAAH的方法中，属电流效率也很高的优良回收方法。

然而，因为供给至阳离子交换材料的含有TAA离子废液中，通常TAA离子浓度为0.5质量％以下的非常低的程度，所以透过阳离子交换材料，回收TAA离子后的TAA离子去除废液的量会有增多的倾向。

上述去TAA离子废液因为含有上述含有TAA离子废液中的有机物及金属成分，而被认为没有再利用价值，所以截至目前为止，皆于经过适当的处理后即被排出。

然而，随着含有TAA离子废液的排出量的增加，上述去TAA离子废液的排出量也随之增加，从削减废液处理相关成本的观点考虑，如何落实上述去TAA离子废液的再利用方法，实为相关业者所殷切企盼。

鉴于上述习知技术的问题，本发明的目的就是提供一种去TAA离子废液的再利用方法，使含有TAA离子废液与阳离子交换树脂接触，并使阳离子交换树脂吸附TAA离子，藉此将TAA离子回收后的去TAA离子废液再予以再利用的方法。

技术方案

为达成上述目的，本发明者们锐意检讨的结果，本发明者们先对上述去TAA离子废液中的杂质含量进行分析，其结果与预测相反，发现是高纯度的水。于此，对是否可将上述去TAA离子废液作为工业用水使用进行检讨，其结果发现，可将去TAA离子废液作为诸如在显影工程中使用的显影液的稀释水，或在润洗工程中使用的润洗液等工业用水使用，遂完成本发明。

亦即，本发明的去TAA离子废液的再利用方法，使含有TAA离子废液接触于阳离子交换树脂，并使阳离子交换树脂吸附TAA离子，藉此，回收TAA离子后的去TAA离子废液作为工业用水再利用。

有益效果

以往，使含有TAA离子废液与阳离子交换树脂接触而回收TAA离子后的去TAA离子废液在未使用的状态下经适当的处理，随即被排出。藉由本发明，上述去TAA离子废液作为工业用水再利用的方法得以实现，可大幅削减废弃处理相关的成本及制造成本。

附图说明

图1为本发明的具代表性的处理方法的流程示意图。

具体实施方式