[发明专利]微分相位对比成像系统的校准无效
申请号: | 201080055691.5 | 申请日: | 2010-12-08 |
公开(公告)号: | CN102651994A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | G·福格特米尔;K·J·恩格尔;D·格勒;T·克勒;E·勒斯尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61B1/00 | 分类号: | A61B1/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈松涛;韩宏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微分 相位 对比 成像 系统 校准 | ||
1.用于对对象进行微分相位对比成像的X射线成像系统,包括:
X射线发射装置(12);以及
X射线检测装置(16);
其中,所述X射线发射装置(12)提供至少部分相干的X射线辐射(26);
其中,所述X射线检测装置(16)包括:
相位偏移衍射光栅(28);
相位分析器光栅(30);以及
X射线图像检测器(32);
其中,所述X射线发射装置(12)、所述相位偏移光栅(28)、所述相位分析器光栅(30)以及所述图像检测器(32)依此顺序沿着光轴(34)设置;
其中,待检查的对象可容纳在所述X射线发射装置(12)与所述相位分析器光栅(30)之间,以使得所述对象的感兴趣区域可暴露于从所述X射线发射装置(12)朝向所述检测器(32)发射的X射线辐射;并且
其中,所述光栅(28、30)之一和所述X射线发射装置(12)的组中的至少一个提供有相对于所述光轴(34)彼此相对设置的至少两个致动器
(40)。
2.根据权利要求1所述的X射线成像系统,其中,所述至少两个致动器(40)提供所述光栅(28、30)之一和所述X射线发射装置(12)的组中的至少一个的步进运动,用于相位步进图像获取,并且提供用于校准所述系统的校准运动,以便检测和补偿所述X射线发射装置(12)、所述相位偏移光栅(28)和所述相位分析器光栅(30)的错位。
3.根据权利要求1或2所述的X射线成像系统,其中,所述X射线发射装置(12)包括发射非相干X射线辐射的X射线源(36);并且其中,源光栅(38)布置为接近所述X射线源(36)以提供空间束相干性。
4.根据权利要求1到3中的一项所述的X射线成像系统,其中,所述至少两个致动器(40)均提供在垂直于栅格取向并且还垂直于所述光轴(34)的方向上的线性运动。
5.根据前述权利要求中的一项所述的X射线成像系统,其中,所述至少两个致动器(40)提供为具有固态铰链的压电驱动元件。
6.用于获取关于对象的信息的方法,包括以下步骤:
a)从X射线发射装置(12)朝向X射线检测装置(16)发射(112)至少部分相干的X射线辐射(26);
其中,所述X射线检测装置(16)包括相位偏移衍射光栅(28)、相位分析器光栅(30)和X射线图像检测器(32);
其中,所述X射线发射装置(12)、所述相位偏移光栅(28)、所述相位分析器光栅(30)和所述图像检测器(32)沿着光轴(34)设置;并且
其中,所发射的至少部分相干的X射线辐射、所述相位偏移光栅(28)和所述相位分析器光栅(30)具有共同的栅格取向;
b)在无对象的情况下执行第一组多个校准投射(116);
其中,在所述第一组多个校准投射期间,所发射的X射线辐射,或所述相位偏移光栅(28)和所述相位分析器光栅(30)的组中的一个以校准移位值逐步移位;
c)在对象(24)设置在所述X射线发射装置(12)与所述相位分析器光栅(30)之间的情况下,执行(118)第二组多个测量投射(120);
其中,在所述第二组多个测量投射期间,所发射的X射线辐射(26),或所述相位偏移光栅(28)和所述相位分析器光栅(30)的组中的一个以测量增量逐步移位;以及
d)通过将所述测量投射(120)与所述校准投射(116)配准,将所述校准投射(116)中的至少一个与所述测量投射(120)中的每一个关联(122)。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,在步骤d)之后执行以下步骤:
e)通过从所述测量投射(120)的每一个中减去相应的关联的校准扫描(116),生成(124)调整的测量投射(126);
f)根据所述调整的测量投射(126),确定(128)微分相位数据(130);以及
g)生成(132)代表所确定的微分相位数据(130)的对象信息(134)。
8.根据权利要求6或7所述的方法,其中,在步骤b)之后,对于所述校准投射(116)中的每一个,确定(146)相位梯度数据(144);并且其中,在步骤c)之后,对于所述测量投射(120)中的每一个,确定(150)相位梯度数据(148)。
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