[发明专利]具有即时相位步进的非平行光栅装置、X射线系统及使用有效
申请号: | 201080055836.1 | 申请日: | 2010-12-03 |
公开(公告)号: | CN102656644B | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | S·舒塞尔;G·福格特米尔 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G21K1/06 | 分类号: | G21K1/06;G01N23/04 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 即时 相位 步进 平行 光栅 装置 射线 系统 使用 | ||
1.一种用于相称成像的光栅装置(1),包括:
第一光栅元件(8);以及
第二光栅元件(10);
其中,所述第一光栅元件(8)和所述第二光栅元件(10)中的每个都包括沟槽结构;
其中,所述沟槽结构包括至少一个沟槽区域(9)和至少一个屏障区域(3);
其中,所述至少一个沟槽区域(9)和所述至少一个屏障区域(3)至少局部被布置为平行;并且
其中,所述第一光栅元件(8)和所述第二光栅元件(10)被布置成使得所述第一光栅元件(8)的所述沟槽结构与所述第二光栅元件(10)的所述沟槽结构至少局部不平行。
2.根据前述权利要求所述的光栅装置,
其中,所述第一光栅元件(8)和所述第二光栅元件(10)被布置为大体上平行。
3.根据前述权利要求中的一项所述的光栅装置,
其中,所述第一光栅元件(8)被作为射束分裂器光栅(8)来提供;并且/或者
其中,所述第二光栅元件(10)被作为分析器光栅(10)来提供。
4.根据前述权利要求中的一项所述的光栅装置,还包括:
具有探测器大小的X射线探测器元件(12);
其中,所述X射线探测器元件(12)被布置为大体上平行于所述第一光栅元件(8)和所述第二光栅元件(10)中的至少一个。
5.根据前述权利要求中的一项所述的光栅装置,
其中,所述第一光栅元件(8)和所述第二光栅元件(10)中的至少一个适于影响电磁辐射的振幅和相位中的至少一个参数。
6.根据前述权利要求中的一项所述的光栅装置,
其中,所述第一光栅元件(8)的所述沟槽结构与所述第二光栅元件(10)的所述沟槽结构包括角度α;并且
其中,α处在大约1°至0.01°的范围内,特别是0.1°、0.2°或0.3°。
7.根据前述权利要求中的一项所述的光栅装置,
其中,所述X射线探测器元件(12)包括X射线探测器元件像素的阵列;并且
其中,X射线探测器元件像素、X射线探测器元件像素行以及X射线探测器元件像素列中的至少一个包括个体相位步进状态。
8.一种X射线系统,包括:
X射线源(2);
还包括X射线探测器元件(12)的根据前述权利要求中的任一项所述的光栅装置(1);
其中,对象(6)能被布置在所述X射线源(12)与所述光栅装置(1)之间;
其中,所述X射线源(12)与所述光栅装置(1)可操作地耦合,使得能够获得所述对象(6)的相称图像。
9.根据权利要求8所述的X射线系统,
其中,所述X射线系统适于采集具有大于所述探测器大小的视场的相称图像;
其中,所述光栅装置(1)能够位移;并且
其中,通过位移所述光栅装置(1),能够获得所述视场的相称图像。
10.根据权利要求8或9所述的X射线系统,
其中,所述X射线探测器元件(12)适于采集所述视场的子区域。
11.根据权利要求8至10中的一项所述的X射线系统,
其中,所述X射线探测器元件(12)和/或所述光栅装置(1)适于扫描所述视场。
12.根据权利要求8至11中的一项所述的X射线系统,
其中,所述X射线探测器元件(12)和/或所述光栅装置(1)能从用于采集第一相称图像信息的第一位置和/或取向位移至用于采集第二相称信息的第二位置和/或取向。
13.根据权利要求8至12中的一项所述的X射线系统,还包括第三光栅元件(4),特别是源光栅(4)。
14.根据权利要求8至13中的一项所述的X射线系统,
其中,所述X射线源(2)和/或所述第三光栅元件(4)能相对于所述第一光栅元件(8)、所述第二光栅元件(10)、所述对象(6)以及所述X射线探测器元件(12)中的至少一个进行位移。
15.根据权利要求1至7中的至少一项所述的光栅装置(1)在X射线系统、CT系统、乳房摄影X射线系统、检测X射线系统、安全X射线系统、工业X射线系统以及断层摄影合成系统的至少一个中的使用。
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