[发明专利]有机硅化合物有效

专利信息
申请号: 201080056359.0 申请日: 2010-09-21
公开(公告)号: CN102656210A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: A.A.瓦伊德亚;N.戈什;B.孔祖皮莱 申请(专利权)人: 荷兰联合利华有限公司
主分类号: C08G77/04 分类号: C08G77/04;C08G77/28;A61K8/89;C07F7/08;C08G77/38
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 韦欣华;杨思捷
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 有机硅 化合物
【说明书】:

技术领域

本发明涉及有机硅化合物和包含其的具有光防护性质的个人护理组合物。

发明背景

太阳辐射包括大约5%紫外线(UV)辐射,其波长为200纳米至400纳米。其进一步分成三个区域:320至400纳米(UV-A)、290至320纳米(UV-B)和200至290纳米(UV-C)。大部分UV-C辐射被臭氧层吸收。科学研究已表明,短时间暴露在UV-A和UV-B辐射下造成皮肤变红和局部刺激,而持续长期暴露会造成晒伤、黑色素瘤和皱纹形成。也报道了UV辐射对头发造成显著破坏。因此希望保护皮肤和人体的其它角蛋白基质免受UV-A和UV-B辐射的有害影响。此外,保护身体免受可见光谱的破坏效应也是重要的。可见光部分为400至800纳米。据信,持续暴露在可见光下对皮肤造成破坏效应,如红斑、色素沉着、热损伤和自由基生成(Bassel等人, Effects of Visible Light on the Skin, Photochemistry and Photobiology第84卷第2期,第450-462页, 2008)。因此除了防紫外线外,还必须获得包括可见光在内的更广谱防护。个人护理产品如乳霜(creams)和乳液(lotions)用于减轻这些效应和/或防止进一步损伤。为此,通常在其中加入遮光剂(sunscreens)或防晒剂(sun block agents)以保护皮肤免受紫外线辐射的有害效应。

有机遮光剂吸收大部分入射UV辐射,由此防止该辐射接触皮肤表面。它们具有UV吸收位点,被称作发色团,这些主要负责它们的活性。一些遮光剂吸收UV-A辐射,而一些吸收UV-B辐射。

传统UV-A和UV-B遮光剂在用于局部产品时具有与相对较低的光稳定性和有害光降解副产物有关的问题。

一种这样的方法是如共同待审的印度专利申请号2084/MUM/2006中所公开的将UV-A和UV-B基团连接到有机硅骨架上以提供遮光保护。

此外,EP0842938(L'Oreal, 1999)公开了黄酮取代的有机硅化合物。US2009/0209743(Wacker)公开了黄酮衍化的有色有机聚硅氧烷。上述两个公开都公开了直链有机硅聚合物的衍生化并且没有提到通过间隔基交联。

没有公开太多除UV辐射外还防可见光辐射的组合物,特别是因为最近的证据表明可见光波长内的辐射也会造成显著皮肤损伤(Bassel等人, Effects of Visible Light on the Skin, Photochemistry and Photobiology第84卷第2期,第450-462页, 2008)。

在化妆品组合物中已包括对可见光辐射提供一定防护的化合物,如姜黄素。但是,姜黄素之类的化合物受困于相对较低的光稳定性和有害降解产物的问题。

另一方面,增稠剂如DC9040(Dow Corning)可以与对可见光辐射提供光防护的化合物一起使用以提供增稠,但所得组合物不能均匀铺展。

本发明人已致力于提供对UV辐射和可见光辐射具有光谱防护的防晒剂的问题。他们惊讶地发现,在将自然界中常存在的某些部分,例如具有UV-可见光吸收活性的类姜黄素、多酚或类黄酮连接到交联有机硅聚合物上时,它们不仅提供所需光防护,还可优异铺展在皮肤和其它人类角蛋白基质上,这是提供增强的光防护所必须的。此外,由此合成的新聚合物非常易于用亲水基团进一步衍生化以便实现该聚合物在局部产品中的自乳化。此外,本发明的化合物在并入包含传统UVA和UVB遮光剂的遮光组合物中时提供增强的遮光。

因此本发明的目的之一是克服或改善现有技术的至少一个缺点或提供有用的替代方案。

本发明的另一目的是提供对UV和可见光辐射具有相对更好的防护并仍具有相对更大的光稳定性的化合物。

本发明的再一目的是提供对UV和可见光辐射具有增强的光防护、同时具有自乳化性质以致无需附加乳化剂就能并入个人护理组合物中的化合物。

本发明的又一目的是提供在基底上最佳铺展以产生所需光防护的个人护理遮光组合物。

发明概述

根据本发明的一个方面,提供下列通式的有机硅化合物:

其中R1是含有1-50个碳原子的直链或支化烷基、环烷基、多环烷基、杂环烷基、烷芳基、烷氧基、芳基、芳烷基、烯基、炔基或氟碳基;

R2是R1或-H、-OH或含有碳、氮、磷、硫、氧或硅原子的有机基团;

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