[发明专利]用于口腔的组合物有效
申请号: | 201080056405.7 | 申请日: | 2010-10-14 |
公开(公告)号: | CN102655842A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 阪本广志 | 申请(专利权)人: | 太阳星光齿磨公司 |
主分类号: | A61K8/25 | 分类号: | A61K8/25;A61Q11/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王旭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 口腔 组合 | ||
1.一种包含熔融二氧化硅和牙科磨料的口腔用组合物。
2.根据权利要求1所述的口腔用组合物,包含按质量计0.25至8.5%的所述熔融二氧化硅。
3.根据权利要求1或2所述的口腔用组合物,其中所述熔融二氧化硅的BET比表面积为10(m2/g)以下。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的口腔用组合物,其中所述熔融二氧化硅具有的吸油量为20(mL/100g)以下。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的口腔用组合物,其中所述牙科磨料是选自由以下各项组成的组中的至少一种:沉淀二氧化硅,硅胶,热解法二氧化硅,硅酸锆,硅酸铝,磷酸钙,无水磷酸二钙,磷酸二钙二水合物,磷酸三钙,无水磷酸氢钙,磷酸氢钙二水合物,焦磷酸钙,碳酸钙,硫酸钙,氢氧化铝,水不溶性偏磷酸钠,磷酸三镁,碳酸镁,氧化钛,聚甲基丙烯酸甲酯,膨润土,羟磷灰石,结晶纤维素,聚乙烯珠,以及聚丙烯珠。
6.根据权利要求5所述的口腔用组合物,其中所述牙科磨料是沉淀二氧化硅。
7.根据权利要求6所述的口腔用组合物,其包含按质量计5至26%的沉淀二氧化硅。
8.根据权利要求6或7所述的口腔用组合物,其包含按质量计总共10至34.5%的所述熔融二氧化硅和所述沉淀二氧化硅。
9.根据权利要求6-8中任一项所述的口腔用组合物,其中所述口腔用组合物中包含的所述沉淀二氧化硅与所述熔融二氧化硅的质量比(沉淀二氧化硅/熔融二氧化硅)为2.5-11∶1。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的口腔用组合物,用于去除附着于牙齿的色斑。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的口腔用组合物,其中,所述熔融二氧化硅是其中粒度大于60μm的颗粒基本上被除去的熔融二氧化硅。
12.根据权利要求1-10中任一项所述的口腔用组合物,其中,所述熔融二氧化硅是通过60-μm筛网筛分的熔融二氧化硅。
13.根据权利要求1-12中任一项所述的口腔用组合物,其中,所述RDA值为90至140。
14.根据权利要求1-13中任一项所述的口腔用组合物,其包含具有不同平均粒度的熔融二氧化硅。
15.根据权利要求14所述的口腔用组合物,其包含平均粒度为0.1至10μm的熔融二氧化硅和平均粒度大于10μm且小于等于45μm的熔融二氧化硅。
16.根据权利要求14或15所述的口腔用组合物,其中所述平均粒度为0.1至10μm的熔融二氧化硅的质量占所述熔融二氧化硅的总质量的10至90%。
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