[发明专利]充电构件、处理盒和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及用于电子照相设备的充电构件、处理盒和电子照相设备。

背景技术

在电子照相设备中，与电子照相感光构件的表面接触和具有用于给电子照相感光构件的表面充电的辊形状的充电构件(下文中也称为充电辊)通常具有包含树脂的弹性层。此类充电辊能够充分地确保充电辊和电子照相感光构件之间的辊隙宽度，结果，能够有效并均匀地给电子照相感光构件充电。然而，弹性层包含增塑剂或树脂的低分子量组分，从而使其软化。因此，低分子量组分会在长期使用之后渗出至充电辊的表面。关于此类问题，专利文献1公开了用通过溶胶-凝胶法形成的由无机氧化物膜构成的渗出阻挡层(bleeding block layer)覆盖充电辊表面并抑制低分子量组分渗出直至表面的导电辊基材。

引用列表

专利文献

PTL 1：日本专利申请特开2001-173641

发明内容

发明要解决的问题

根据由本发明人进行的研究，发现了专利文献1中公开的导电辊(其渗出阻碍层为表面层)，在重复使用之后逐渐磨耗，并且导致充电性能随时间而改变。

接着，本发明的目的在于提供其充电性能即使在长期使用之后也较少地随时间变化的充电构件。本发明的另一目的在于提供能够稳定地形成高品质电子照相图像的处理盒和电子照相设备。

用于解决问题的方案

根据本发明的充电构件依次具有支承体、导电性弹性层和表面层，其中所述表面层包括聚硅氧烷和倍半硅氧烷，其中

所述聚硅氧烷具有由SiO_0.5R¹(OR²)(OR³)表示的第一单元、由SiO_1.0R⁴(OR⁵)表示的第二单元和由SiO_1.5R⁶表示的第三单元，

和所述倍半硅氧烷为选自由以下化合物(1)-(6)表示的化合物组成的组的至少一种化合物：

[式1]

化合物(1)

[式2]

化合物(2)

[式3]

化合物(3)

[式4]

化合物(4)

[式5]

化合物(5)

[式6]

化合物(6)

其中R¹、R⁴和R⁶各自独立地表示取代或未取代的烷基，或取代或未取代的芳基；R²、R³和R⁵各自独立地表示氢原子或取代或未取代的烷基；所述化合物(1)-(6)中的R₁₀₁至R₆₁₆各自独立地为选自由未取代的烷基、烷基氟基团、未取代的芳基和由下式(7)表示的基团组成的组的至少一种；所述化合物(1)-(6)中的R₁₀₁至R₆₁₆各自独立地为选自由取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基和由下式(7)表示的基团组成的组的至少一种：

[式7]

其中X、Y和Z各自独立地为选自由取代或未取代的烷基和取代或未取代的芳基组成的组的至少一种；和m为1-20的整数。

另外，根据本发明的电子照相设备包括充电构件和以与所述充电构件接触而配置的电子照相感光构件。此外，根据本发明的处理盒一体化保持充电构件和选自由电子照相感光构件、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组的至少一种构件，并且采用所述处理盒从而可拆卸地安装在电子照相设备的主体上。

发明的效果

本发明能够提供具有即使在长期使用后也耐变化和优良耐久性的充电性能的充电构件。这认为是因为根据本发明充电构件的表面层通过根据化合物(1)-(6)的倍半硅氧烷来补强，其在分子水平上填充根据本发明的聚硅氧烷中的间隙。结果，认为表面层能够保持均匀的机械强度并即使通过在接触充电时与电子照相感光构件摩擦也耐磨耗。

附图说明

[图1]

图1为与根据本发明充电构件的轴向垂直的平面的截面图。

[图2]

图2为设置有根据本发明处理盒的电子照相设备的示意图。

具体实施方式