[发明专利]用于制造包括透镜状阵列以及模糊像素轨迹的安全证件的方法和设备

权利要求书

1.一种制造显示装置的方法，包括以下步骤：

提供物体的m幅图像，其中，m至少等于2；

将每幅图像划分成以间距δ隔开的图元的n组相邻的阵列(l_1,1,l_1,2…1_1,n),…,(l_m1,l_m2,…,l_mn)；

借助于印制或通过将光束投射或扫描而将所述图像以交错的方式施加在位于透镜结构下方呈交错阵列(l_l1,l₂₁…1_m1),…,(l_1n,l_2n,…,l_mn)的组的图像层上，每组包括与所述m幅图像对应的m个像素轨迹，其中所述透镜结构包括位于图像层上方的直线形透镜元件，一个直线形透镜元件上覆一个对应组的相邻阵列，

其特征在于，在将各阵列施加到所述图像层上之后和/或在设置所述透镜元件之后，图元的每个阵列以非对焦的方式被设置到所述图像层上以形成模糊的阵列或者每个阵列由所述透镜元件成像以形成模糊的阵列，其中模糊的阵列中的像素轨迹强度不再是阶跃函数，而示出在距离0.5δ内是从最大强度值(I_h)逐渐减小至低值(I₁)，其中相邻的模糊的阵列的边缘的间距小于所述间距δ，通过以非对焦方式实施所述阵列所造成的宽度增加是在5％与100％之间。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，图元的阵列通过以下方式被设置在所述图像层上，即将光束投射或扫描到透镜元件上并且通过所述透镜元件将光束聚焦到图像层上，所述图像层与所述透镜元件之间的距离H与所述透镜元件的焦距相差至少5％。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，图元的阵列通过印制以非对焦的方式被设置到所述图像层上。

4.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，相邻的模糊的阵列的边缘大致接触。

5.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述显示装置是安全证件。

6.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，通过以非对焦方式实施所述阵列所造成的宽度增加是在5％与50％之间。

7.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，通过以非对焦方式实施所述阵列所造成的宽度增加是在5％与30％之间。

8.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，通过以非对焦方式实施所述阵列所造成的宽度增加是在5％与15％之间。

9.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述图像层与所述透镜元件之间的距离H与所述透镜元件的焦距相差至少10％。

10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述图像层与所述透镜元件之间的距离H与所述透镜元件的焦距相差至少20％。

11.一种根据前述权利要求任一所述的方法制成的显示装置，该显示装置包括透镜元件阵列，其与具有像素轨迹组的图像层重叠。

12.一种用于借助于如权利要求1至10任一所述的方法制造显示装置的设备，所述设备包括光束发生器；基板载体；用于以直线的模式使得光束扫描横贯所述基板载体上的图像层的扫描装置；控制单元；以及使得所述基板载体绕相对于所述光束大致横向延伸的轴线倾斜的倾斜装置，其中所述控制单元用于存储以间距δ隔开的具有宽度w的图元的多个阵列并且用于控制所述光束发生器和/或所述扫描装置，以便将所述阵列扫描到所述基板载体上的图像层上，其中，所述控制单元适于形成具有非对焦宽度w′的模糊交错的像素阵列，该非对焦宽度w′大于宽度w，所述模糊交错的像素阵列能够被写到在所述基板载体上设置的图像层上，其中模糊的阵列中的像素轨迹强度不再是阶跃函数，而示出在距离0.5δ内是从最大强度值(I_h)逐渐减小至低值(I₁)，以使得相邻的模糊像素阵列的边缘的间距δ′小于间距δ并且通过以非对焦方式实施所述阵列所造成的宽度增加是在5％与100％之间。

13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，光束经由透镜被投射到所述图像层表面上。