[发明专利]微孔膜、其制造方法及它们作为电池隔膜的用途无效

专利信息
申请号: 201080057601.6 申请日: 2010-12-15
公开(公告)号: CN102725054A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 山田一博 申请(专利权)人: 东丽电池隔膜合同会社
主分类号: B01D71/26 分类号: B01D71/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李新红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 微孔 制造 方法 它们 作为 电池 隔膜 用途
【权利要求书】:

1.一种膜,所述膜的归一化针戳穿强度≥20.0gF/μm且归一化透气性≤50.0秒/100cm3/μm,所述膜包含Mw≤1.0x106的第一聚合物和Mw>1.0x106的第二聚合物,所述膜是基本没有口模划痕的微孔膜。

2.权利要求1所述的膜,其中对于在所述膜的表面上的所有点,在所述膜的表面上的第一点处的膜厚度与在所述第一点的25.0mm内的每一点处的膜厚度之间的差≤1.2μm。

3.权利要求1或2所述的膜,其中所述膜是挤出膜。

4.权利要求3的所述微孔膜,其中所述膜基本没有口模条纹。

5.权利要求1-4中任一项所述的膜,其中所述膜具有最大可见光反射率R1和最小可见光反射率R2,且(R1-R2)/R1≥0.1。

6.权利要求1-5中任一项所述的膜,其中所述第一聚合物是第一聚乙烯,所述第二聚合物是第二聚乙烯,并且所述膜包含基于所述膜的重量为0.5重量%至55.0重量%的所述第二聚乙烯。

7.权利要求6所述的膜,其中所述膜是单层膜,所述单层膜包含基于所述膜的重量为0.5重量%至6.0重量%的量的所述第二聚乙烯,所述膜的TD抗张强度≥1.7x103kgF/cm2

8.权利要求6所述的膜,其中所述微孔膜是单层膜,所述单层膜包含35.0重量%至45.0重量%的量的所述第二聚乙烯,所述膜的TD抗张强度≥1.8x103kgF/cm2

9.权利要求1-6中任一项所述的膜,其中所述膜是多层膜。

10.一种电池隔体,所述电池隔体包含任一前述权利要求所述的膜。

11.一种用于改善通过使聚合物-稀释剂混合物在取向温度取向而制备的微孔高分子膜的外观和强度的方法,所述方法包括以下步骤:

(a)观察在所述微孔高分子膜上的至少一条口模条纹;

(b)将聚合物在所述聚合物-稀释剂混合物中的量从第一相对聚合物量减小至第二相对聚合物量从而在所述微孔高分子膜上产生更少的口模条纹;以及

(c)将所述取向温度从第一温度降低至第二温度以实现或超过目标水平的膜强度。

12.根据权利要求11所述的方法,其中所述聚合物包含约0.5至约55重量%的Mw≤1.0x106的第一聚乙烯和Mw>1.0x106的第二聚乙烯。

13.根据权利要求11或12所述的方法,其中所述稀释剂包括液体石蜡。

14.根据权利要求12或13所述的方法,其中所述聚合物包含0.5至6.0重量%的所述第二聚乙烯并且所述第二相对聚合物量为基于所述聚合物-稀释剂混合物的重量的30.0重量%至39.0重量%。

15.根据权利要求14所述的方法,其中所述微孔膜被双轴取向并且所述第二温度在117.0℃至118.8℃的范围。

16.根据权利要求12或13所述的方法,其中所述聚合物包含35.0重量%至45.0重量%的所述第二聚乙烯,并且所述第二相对聚合物量为基于所述聚合物-稀释剂混合物的重量的25.0重量%至28.0重量%。

17.根据权利要求16所述的方法,其中所述聚合物包含约37重量%至42重量%的所述第二聚乙烯。

18.根据权利要求17的方法,其中所述膜被双轴取向,并且所述第二温度在110.9℃至111.6℃的范围。

19.根据权利要求11-13的方法,其中所述膜是多层膜。

20.权利要求11-19中任一项所述的膜产品。

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