[发明专利]光掩模

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过微型透镜将掩模图案的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的光掩模，具体而言涉及一种欲要提高照射于被曝光体的光的利用效率的光掩模。

背景技术

例如现有的这种光掩模具有：形成在设于透明基板的一表面的遮光膜上的规定形状的多个开口；在所述透明基板的另一表面与所述各开口分别对应设置，使所述开口的像成像在接近对置而配置的被曝光体上的多个微型透镜，从而提高接近曝光中的曝光图案的析像度而能够实现微细图案的曝光(例如，参考专利文献1)。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2009-277900号公报

发明内容

【发明要解决的课题】

但是，在这样的现有的光掩模中，设于透明基板的一表面的开口(掩模图案)和设于所述透明基板的另一表面的微型透镜(投影透镜)以与基板的厚度相等的间隔分离配置，故存在通过光掩模的所述开口的光中的一部分光未被取入对应的所述微型透镜内的情况。其原因在于，由于照射于光掩模的光源光存在视觉(准直半角)，故通过了开口的光以与所述准直半角相当的角度扩展而入射于微型透镜。因此，随着所述开口与微型透镜的间隔的扩展，被取入微型透镜的光的量减少，照射于被曝光体的光量减少，而有可能使光的利用效率降低。

尤其是，在用于大面积的例如TFT显示用基板的曝光的光掩模的情况下，透明基板的厚度厚达几mm～十几mm，所述问题更为显著。

对此，本发明是为了处理这样的问题而作出的，其目的在于，提供一种欲要提高照相于被曝光体的光的利用效率的光掩模。

【用于解决课题的手段】

为了实现所述目的，本发明的光掩模具有：掩模基板，其在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案；微型透镜阵列，其在另一透明基板的一表面形成有将所述多个掩模图案的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜，并在另一透明基板的另一表面以使光轴与所述投影透镜的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于所述投影透镜的多个向场透镜，以使所述掩模图案与所述向场透镜具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合所述掩模基板与所述微型透镜阵列。

根据这样的结构，在相对于掩模基板的掩模图案具有规定间隙且接近对置而配置的微型透镜阵列的向场透镜的作用下，将通过了掩模图案的光聚光于投影透镜，并通过该投影透镜将所述掩模图案的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上。

另外，在所述微型透镜阵列的至少所述多个投影透镜的外侧区域形成有遮光膜。由此，通过形成于微型透镜阵列的至少多个投影透镜的外侧区域的遮光膜来遮断向投影透镜外照射的光。

进而，在所述微型透镜阵列的形成有所述多个投影透镜的表面以该投影透镜为基准而设有用于与所述被曝光体对位的对准标记。由此，通过在微型透镜阵列的形成有多个投影透镜的表面以该投影透镜为基准而设置的对准标记来进行与被曝光体的对位。

另外，所述被曝光体在曝光中沿着一个方向以恒定速度被搬运，所述对准标记以离开形成有所述多个投影透镜的区域的朝向所述被曝光体的搬运方向的前侧规定距离的方式设置。由此，在离开形成有多个投影透镜的区域的朝向被曝光体的搬运方向的前侧规定距离而设置的对准标记的作用下，与在曝光中沿着一个方向以恒定速度被搬运的被曝光体进行对位。

进而，所述对准标记包括；与所述被曝光体的搬运方向平行的一对细线图案；设于该一对细线图案间且相对于所述被曝光体的搬运方向以规定角度交叉的一根细线图案。由此，在包括与被曝光体的搬运方向平行的一对细线图案和设于该一对细线图案间且相对于被曝光体的搬运方向以规定角度交叉的一根细线图案的对准标记的作用下，与沿着一个方向以恒定速度被搬运的被曝光体进行对位。

并且，在所述投影透镜的表面设有光圈，所述光圈具有直径小于所述向场透镜的直径的圆形开口。由此，通过设于投影透镜的表面且具有直径比向场透镜的直径小的圆形开口的光圈来限制在投影透镜中射出的光束径。

【发明效果】

根据第一方面的发明，能够通过与掩模图案接近对置而配置的向场透镜使通过了掩模图案的光的大致全量聚光于投影透镜。因而，能够提高经由投影透镜而照射于被曝光体的光的利用效率。由此，能够降低光源的功率，从而减轻光源的负担。

另外，根据第二方面的发明，能够遮断通过光掩模的不需要的漏光，从而能够进一步提高曝光图案的分辨率。