[发明专利]光刻设备以及器件制造方法

权利要求书

1.一种用于光刻设备的照射系统，所述光刻设备布置成将图案从图案形成装置投影到衬底上，所述照射系统配置成调节辐射束并将辐射束引导至图案形成装置上，所述照射系统包括：

第一反射部件和第二反射部件，第一反射部件布置成将辐射束的辐射引导至第二反射部件上，所述第一反射部件包括多个可移动反射元件，每一个可移动反射元件能够在至少第一位置和第二位置之间移动以改变照射模式，并且所述第二反射部件与图案形成装置的光瞳平面相关；和

控制系统，布置成将所述多个可移动反射元件设置于各个期望位置以便实现从一组预定照射模式中选择出的期望的照射模式，并且进一步布置成将至少一个可移动反射元件设置于与其期望位置不同的校正位置以实现成像参数的调节。

2.如权利要求1所述的照射系统，其中控制系统布置成实现图案中的邻近效应的校正。

3.如权利要求1或2所述的照射系统，其中控制系统布置成实现选自由下列参数构成的组的成像参数的调节：CD随节距的变化；NILS随节距的变化以及线：间距比随节距变化。

4.如权利要求1或2或3所述的照射系统，其中控制系统布置成将所述至少一个可移动元件设置至使得所述至少一个可移动元件沿使得辐射不到达衬底的方向引导辐射的位置。

5.如权利要求1或2或3所述的照射系统，其中控制系统布置成将所述至少一个可移动元件设置至使得所述至少一个可移动元件沿使得辐射到达衬底的方向引导辐射的位置。

6.如权利要求1、2、3、4或5所述的照射系统，其中控制系统布置成将所述至少一个可移动反射元件设置成使得在期望的照射模式的亮区域内形成暗斑点。

7.如权利要求1-6中任一项所述的照射系统，其中控制系统布置成将所述至少一个可移动反射元件设置成使得在期望的照射模式的暗区域内形成亮斑点。

8.如权利要求1-7中任一项所述的照射系统，其中控制系统包括：

存储器，布置成存储识别对在每个位置的每个可移动反射元件的成像参数的效应的信息，以使控制系统能够采用用于选择一个可移动反射元件及其位置的选择器使得在所选择位置处的所选择的可移动反射元件的效应之和尽可能接近成像参数的期望的调节；和

选择器，布置成选择一个或更多个可移动反射元件及其位置使得将所选择的可移动反射元件设置到所选择的位置的效应之和尽可能接近成像参数的期望的调节，

其中，控制系统布置成将所选择的可移动反射元件设置到所选择的位置。

9.如权利要求8所述的照射系统，其中：

可移动反射元件布置成将辐射引导至第二反射部件上的具有至少一个对称度的位置；

存储器布置成存储关于可移动反射元件的衬底的信息；和

控制系统还包括计算器，所述计算器布置成计算没有基于所存储的信息和对称度来存储的信息所针对的可移动反射元件的效应。

10.如权利要求1-9中任一项所述的照射系统，其中控制系统布置成由下列照射模式构成的组选择出预定照射模式：传统照射、双极照射、四极照射、软四极照射以及环形照射。

11.如权利要求1-10中任一项所述的照射系统，其中控制系统布置成将少于约20％的可移动反射元件设置至校正位置。

12.如权利要求11所述的照射系统，其中控制系统布置成将少于约10％的可移动反射元件设置至校正位置。

13.一种制造器件的光刻方法，所述方法包括下列步骤：

将辐射束引导到第一反射部件上，使得其由此被反射并入射到第二反射部件上，所述辐射束其后入射到图案形成装置上，并且第一反射部件包括多个可移动反射元件，每个可移动反射元件在至少第一位置和第二位置之间是可移动的以便改变图案形成装置的照射模式；

通过使用图案形成装置来图案化辐射束；

将图案化的辐射束投影到衬底上；

将可移动反射元件设置至期望位置以限定从一组预定照射模式选择出的期望的照射模式；和

将至少一个可移动反射元件设置到与其期望位置不同的校正位置以实现成像参数的调节。

14.如权利要求13所述的光刻方法，其中所述至少一个可移动反射元件被设置到校正位置以在图案中实现邻近效应的校正。