[发明专利]气体阻隔性层叠薄膜有效
申请号: | 201080058534.X | 申请日: | 2010-12-22 |
公开(公告)号: | CN102762366A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | 津曲祐美;高津洋二;稻垣京子;大川刚;森原芳治;松田修成 | 申请(专利权)人: | 东洋纺织株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B27/28 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 阻隔 层叠 薄膜 | ||
1.一种气体阻隔性层叠薄膜,其特征在于,
在塑料薄膜的至少一方的表面,夹隔或不夹隔其他层地依次层叠有(A)第一无机薄膜层、(C)气体阻隔性树脂组合物层及(D)第二无机薄膜层,
所述(C)气体阻隔性树脂组合物层由含有包含乙烯-乙烯醇系共聚物的气体阻隔性树脂(a)、无机层状化合物(b)、和选自偶联剂及交联剂中的至少1种添加剂(c)而成的气体阻隔性树脂组合物形成,该气体阻隔性树脂组合物中的无机层状化合物(b)的含量,在所述气体阻隔性树脂(a)、所述无机层状化合物(b)及所述添加剂(c)的合计100质量%中,为0.1质量%~20质量%。
2.根据权利要求1所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
所述无机层状化合物(b)为绿土。
3.根据权利要求1或2所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
所述(A)第一无机薄膜层和/或所述(D)第二无机薄膜层含有包含氧化硅及氧化铝的多元体系无机氧化物。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
所述偶联剂是具有1种以上的有机官能团的硅烷偶联剂。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
所述交联剂是氢键性基用交联剂。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
所述添加剂(c)的含量,在所述气体阻隔性树脂(a)、所述无机层状化合物(b)及所述添加剂(c)的合计100质量%中,为0.3质量%~20质量%。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
在所述(A)第一无机薄膜层与所述(C)气体阻隔性树脂组合物层之间具有(B)结合层。
8.根据权利要求7所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
形成所述(B)结合层的结合剂组合物含有具有1种以上的有机官能团的硅烷偶联剂。
9.根据权利要求8所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
所述结合剂组合物中的所述硅烷偶联剂的含量,在结合剂组合物100质量%中,为0.1质量%~10质量%。
10.根据权利要求7~9中任一项所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
将包含所述(B)结合层、所述(C)气体阻隔性树脂组合物层及所述(D)第二无机薄膜层的层叠结构设为一个重复单元,将该单元重复2个以上而成。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的气体阻隔性层叠薄膜,其中,
在所述塑料薄膜与所述(A)第一无机薄膜层之间具有底涂层。
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