[发明专利]具有调节装置的带电粒子多射束光刻系统

权利要求书

1.一种用于将图案传送到目标表面上的带电粒子光刻系统，包括：

用于生成多个带电粒子射束的波束产生器，所述多个射束定义柱体；

波束停止阵列，具有用于阻挡射束到达所述目标表面的表面，以及在所述表面中用于允许所述射束到达所述目标表面的孔隙阵列；以及

调节装置，用于调节所述射束，通过使所述射束偏转或不偏转，使得所述射束被或不被所述波束停止阵列阻挡，以阻止所述射束中的一个或多个到达所述目标表面，或者允许所述射束中的一个或多个到达所述目标表面，所述调节装置包括：

被布置成阵列的多个孔隙，用于让所述射束通过所述调节装置；

被布置成阵列的多个调节器，每个调节器配备有在孔隙的相对侧上延伸的电极，用于生成跨越所述孔隙的电压差；以及

被布置成阵列的多个光敏元件，用于接收经调节的光束，并将所述光束转换成用于激励所述调节器的电信号，其中，所述光敏元件被设置在所述柱体中；

其中，所述调节装置被再划分成多个交替的波束区域和非波束区域，所述调节器的阵列被设置在所述波束区域中，并且所述光敏元件的阵列被设置在所述非波束区域中，并且与相邻的波束区域中的调节器通信。

2.如权利要求1所述的系统，其中，多个所述非波束区域被设置于所述射束柱体内，并且所述带电粒子射束被布置成仅在所述装置的所述波束区域中与所述调节装置相交叉。

3.如权利要求1或2所述的系统，其中，在波束区域中的所述调节器是通过被布置在位于所述波束区域的多于一侧上的非波束区域中的光敏元件来控制的。

4.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，在所述波束区域中的所述调节器比在所述非波束区域中的所述光敏元件更密集地封装在一起。

5.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述射束被布置成组，并且所述调节器被布置成组，每组调节器用于使所述射束组中的一组偏转或不偏转，并且其中，每组调节器被设置在所述调节装置的所述波束区域中的单个区域中。

6.如权利要求5所述的系统，其中，每组射束被布置成汇聚在共同点处。

7.如权利要求6所述的系统，其中，一组射束的共同汇聚点在所述射束组的光轴上。

8.如权利要求6或7所述的系统，其中，使每组调节器中的各个调节器旋转，用于沿从所述射束组的汇聚点延伸的辐射线偏转射束组中的所述射束。

9.如权利要求5至8中的任一项所述的系统，其中，每组射束被布置成被引导向所述波束停止阵列中的单个孔隙。

10.如权利要求5至9中的任一项所述的系统，其中，每组调节器被布置在所述波束区域中的一个波束区域中形成矩形阵列，并且由相邻非波束区域中的单个光敏元件控制。

11.如权利要求5至9中的任一项所述的系统，其中，每组调节器被布置成围绕相应射束组的中心轴的辐射状布置。

12.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述波束区域和所述非波束区域为细长条带的形式。

13.如权利要求12所述的系统，其中，所述条带延伸过所述射束柱体的基本上整个宽度。

14.如权利要求12或13所述的系统，其中，所述非波束区域具有比所述波束区域更宽的宽度。

15.如权利要求12至14中的任一项所述的系统，其中，所述条带的定向基本横切所述光刻系统的圆晶定位系统的相对移动方向，或者基本平行于所述射束的扫描偏转方向。

16.如前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述光敏元件中的每一个提供用于控制多个所述调节器的信号。

17.如权利要求16所述的系统，其中，由所述光敏元件接收的所述经调制的光信号被复用，以提供用于控制多于一个调节器的信息，并且其中，每个光敏元件与解复用器通信，该解复用器用于将用于控制多个调节器的所述接收信号解复用。

18.如权利要求17所述的系统，其中，用于相应的光敏元件的解复用器被设置在所述光敏元件和包括由所述光敏元件接收到的所述信号控制的所述调节器的波束区域之间。