[发明专利]照射系统、光刻设备以及照射方法

权利要求书

1.一种用在光刻设备中的照射系统，所述光刻设备布置成通过使用投影系统将图案形成装置的图案投影到衬底上，所述照射系统包括：

场多小面反射镜装置；和

光瞳多小面反射镜装置，

所述场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，每个场小面能够在第一取向和辅助取向之间切换，

在第一取向，通过场小面的入射极紫外辐射束部被引导至光瞳多小面反射镜装置并从光瞳多小面反射镜装置被引导至图案形成装置，和

在辅助取向，所述束部被引导到光瞳多小面反射镜装置的区域上，所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域设置在对应于光刻设备的投影系统的数值孔径的径向范围内，且所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域布置作为有效地收集入射辐射并避免辐射到达图案形成装置的束流收集区域。

2.如权利要求1所述的照射系统，其中，每个场小面还能够切换至第二取向，在第二取向，其中通过场小面的入射极紫外辐射束部被引导至光瞳多小面反射镜装置并从光瞳多小面反射镜装置被引导至图案形成装置。

3.如权利要求1或2所述的照射系统，其中，所述束流收集区域包括偏离光瞳多小面反射镜装置的中心的隔离区域，所述中心由照射系统的光学轴线限定。

4.如权利要求1或2所述的照射系统，其中，所述束流收集区域包括以光瞳多小面反射镜装置的中心为中心的环形区域，该中心由照射系统的光学轴线限定。

5.如前述权利要求任一项所述的照射系统，其中，每个束流收集区域配置成吸收入射辐射。

6.如前述权利要求任一项所述的照射系统，其中，所述束流收集区域与布置成吸收辐射并设置远离光瞳多小面反射镜装置的装置相关联，以及，其中，所述束流收集区域布置成反射入射辐射到所述相关联的辐射吸收装置。

7.一种光刻设备，包括：

照射系统，包括场多小面反射镜装置和光瞳多小面反射镜装置；

支撑结构，配置成支撑图案形成装置，所述图案形成装置配置成接收来自照射系统的辐射并使该辐射图案化；和

投影系统，配置成将图案化的辐射投影到衬底上，

所述场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，每个场小面能够在第一取向和辅助取向之间切换，在第一取向，通过场小面的入射极紫外辐射束部被引导至光瞳多小面反射镜装置并从光瞳多小面反射镜装置被引导至图案形成装置，和

在辅助取向，所述束部被引导到光瞳多小面反射镜装置的区域上，所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域设置在对应于投影系统的数值孔径的径向范围内，且所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域布置作为有效地收集入射辐射并避免辐射到达图案形成装置的束流收集区域。

8.一种用于修改通过光刻设备的照射系统提供的照射模式的方法，所述照射系统包括场多小面反射镜装置和光瞳多小面反射镜装置，场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，所述方法包括步骤：

引导辐射束至场多小面反射镜装置；和

将场小面从第一取向切换至辅助取向，在第一取向，通过场小面的入射极紫外辐射束部被引导至光瞳多小面反射镜装置并从光瞳多小面反射镜装置被引导至光刻设备的图案形成装置，以为产生照射模式作贡献，和

在辅助取向，所述束部被引导到光瞳多小面反射镜装置的区域，所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域设置在对应于光刻设备的投影系统的数值孔径的径向范围内，且所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域布置作为有效地收集入射辐射并避免辐射到达图案形成装置的束流收集区域。

9.一种器件制造方法，包括步骤：

修改通过光刻设备的照射系统提供的照射模式，所述照射系统包括场多小面反射镜装置和光瞳多小面反射镜装置，场多小面反射镜装置包括多个反射型场小面，所述修改步骤包括：

引导辐射束至场多小面反射镜装置；和

将场小面从第一取向切换至辅助取向，在第一取向，通过场小面的入射极紫外辐射束部被引导至光瞳多小面反射镜装置并从光瞳多小面反射镜装置被引导至光刻设备的图案形成装置，以为产生照射模式作贡献，在辅助取向，所述束部被引导到光瞳多小面反射镜装置的区域上，所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域设置在对应于光刻设备的投影系统的数值孔径的径向范围内，且所述光瞳多小面反射镜装置的所述区域布置作为有效地收集入射辐射并避免辐射到达图案形成装置的束流收集区域；

用图案形成装置对从照射系统接收的辐射进行图案化；和

用投影系统将图案化的辐射投影到衬底上。