[发明专利]充电构件、处理盒和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及用于电子照相设备接触充电的充电构件、处理盒和电子照相设备。

背景技术

为了可以充分和均匀地确保电子照相感光构件和充电构件之间的抵接辊隙，通常形成抵接电子照相感光构件从而使电子照相感光构件充电的充电构件以具有包含橡胶的弹性层。由于此类弹性层不可避免地包含低分子量组分，因此，低分子量组分会由于充电构件的长期使用而向充电构件的表面渗出，从而污染电子照相感光构件的表面。为了应对此类问题，专利文献1提议以下构造：其中弹性层的外周面用无机氧化物涂层或无机-有机混杂涂层覆盖以致可以抑制其低分子量组分向充电构件表面的渗出。

通过该方式，与近来电子照相图像形成过程的速度增加相关，电子照相感光构件和充电构件彼此接触的时间变得相对短，这对于稳定地和确保地使电子照相感光构件充电是不利的。可以说，在该情况下，具有在其外周面上形成的意欲抑制低分子量组分渗出的厚膜的充电构件是对于稳定地和确保地使电子照相感光构件充电是不利的构造。

引用列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请特开2001-173641

发明内容

发明要解决的问题

考虑到上述，本发明的目的在于提供一种充电构件，所述充电构件实现抑制低分子量组分从其弹性层渗出至其表面与电子照相感光构件的带电性能之间的高水平的相容性。本发明的另一目的在于提供各自能够稳定地形成高品质电子照相图像的电子照相图像形成设备和处理盒。

用于解决问题的方案

根据本发明的一个方面，提供一种充电构件，其包括基体、弹性层和表面层，其中所述表面层包括具有Si-O-Ti键的聚合物，和所述聚合物具有由以下通式(1)表示的构成单元和由以下通式(2)表示的构成单元。

[化1]

通式(1)

[化2]

通式(2)

TiO_4/2

在通式中(1)，R₁和R₂各自独立地表示以下通式(3)至(6)中的任一种。

[化3]

通式(3)

[化4]

通式(4)

[化5]

通式(5)

[化6]

通式(6)

在通式中(3)至(6)；

R₃至R₇、R₁₀至R₁₄、R₁₉、R₂₀、R₂₅和R₂₆各自独立地表示氢、具有1-4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基，R₈、R₉、R₁₅至R₁₈、R₂₃、R₂₄和R₂₉至R₃₂各自独立地表示氢或具有1-4个碳原子的烷基，R₂₁、R₂₂、R₂₇和R₂₈各自独立地表示氢、具有1-4个碳原子的烷氧基或具有1-4个碳原子的烷基，n、m、l、q、s和t各自独立地表示1以上至8以下的整数，p和r各自独立地表示4以上至12以下的整数，x和y各自独立地表示0或1；和*和**分别表示与在通式(1)中的硅原子和氧原子的键合位置。

另外，根据本发明的另一方面，提供一种电子照相设备，其具有电子照相感光构件和与所述电子照相感光构件接触放置的上述充电构件。

此外，根据本发明的又一方面，提供一种处理盒，其具有电子照相感光构件和与所述电子照相感光构件接触放置的上述充电构件，所形成的所述处理盒从电子照相设备主体为可拆卸的。

发明的效果

根据本发明，能够获得实现抑制低分子量组分从其弹性层渗出至其表面与优良的带电性能之间的高水平的相容性的充电构件。另外，可以获得通过包括所述充电构件各自能够稳定地形成高品质电子照相图像的电子照相设备和处理盒。

附图说明

[图1]图1为根据本发明的充电构件的截面图。