[发明专利]包含具有改进的耐久性的临时性防雾涂层的光学制品有效

专利信息
申请号: 201080060032.0 申请日: 2010-12-22
公开(公告)号: CN102686527A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: M·卡代;M·弗伊雷德;F·亨基 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: C03C17/30 分类号: C03C17/30;G02B1/10;G02B1/11;G02B27/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李颖;林柏楠
地址: 法国沙*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包含 具有 改进 耐久性 临时性 涂层 光学 制品
【权利要求书】:

1.一种用于眼镜的透镜,其包含涂有在其表面上包含硅烷醇基团的涂层的基体,以及直接接触该涂层的防雾涂层前体涂层,特征在于该防雾涂层前体涂层:

-通过接枝至少一种具有以下基团的有机硅烷化合物而获得:

-包含小于80个碳原子的聚氧化烯基团,和

-至少一个带有至少一个可水解基团的硅原子,

-具有小于或等于5nm的厚度,

-具有大于10°且小于50°的水静态接触角。

2.根据权利要求1的用于眼镜的透镜,特征在于防雾涂层前体涂层涂有液体溶液薄膜,所述液体溶液包含至少一种表面活性剂和/或没有表面活性性能的亲水化合物,优选包含聚(氧化烯)基团的表面活性剂。

3.根据权利要求2的用于眼镜的透镜,特征在于其具有小于或等于10°、更优选小于或等于5°的水静态接触角。

4.根据权利要求1-3任一项的用于眼镜的透镜,特征在于所述在其表面上包含硅烷醇基团的涂层是抗反射涂层或沉积在耐磨涂层上的基于二氧化硅的层。

5.根据权利要求1-4任一项的用于眼镜的透镜,特征在于有机硅烷化合物是具有下式的化合物:

R1YmSi(X)3-m    (I)

其中基团Y相同或不同,是通过碳原子与硅键合的一价有机基团,基团X相同或不同,是可水解基团,R1是包含聚氧化烯官能团的基团,m是等于0、1或2的整数。

6.根据权利要求5的用于眼镜的透镜,特征在于有机硅烷化合物是具有下式的化合物:

Ym(X)3-mSi(CH2)n’–(L’)m’–(OR)n-O–(L”)m”–R’(II)

其中R’为氢原子,直链或支化的酰基或烷基,其任选被一个或多个官能团取代,并且任选包含一个或多个双键,(OR)n是聚氧化烯基团,其中R为直链或支化,优选直链的亚烷基,L’和L”为二价基团,X、Y和m如权利要求5中所定义,n’是1-10的整数,n是2-30的整数,m’为0或1,优选0,m”为0或1。

7.根据权利要求6的用于眼镜的透镜,特征在于R’为烷基。

8.根据权利要求6或7的用于眼镜的透镜,特征在于m”=0。

9.根据权利要求6-8任一项的用于眼镜的透镜,特征在于有机硅烷化合物为式(II)的化合物,其中n=5-30,优选n=5-15,更优选n=6-9。

10.根据前述权利要求任一项的用于眼镜的透镜,特征在于有机硅烷化合物为[烷氧基(聚烯氧基)烷基]三烷氧基硅烷,优选2-[甲氧基(聚乙烯氧基)丙基]三甲氧基硅烷,更优选式CH3O-(CH2CH2O)6-9-(CH2)3Si(OCH3)3或CH3O-(CH2CH2O)9-12-(CH2)3Si(OCH3)3的化合物。

11.根据前述权利要求任一项的用于眼镜的透镜,特征在于有机硅烷化合物不含氟原子。

12.根据前述权利要求任一项的用于眼镜的透镜,特征在于有机硅烷化合物的聚氧化烯基团包含小于60个碳原子,优选小于50个碳原子。

13.制备根据前述权利要求任一项的用于眼镜的透镜的方法,包括步骤:

-提供涂有在其表面上包含硅烷醇基团的涂层的基体,

-在所述涂层上沉积至少一种有机硅烷化合物,该化合物具有包含小于80个碳原子的聚氧化烯基团和至少一个带有至少一个可水解基团的硅原子,以获得厚度小于或等于5nm的接枝的有机硅烷化合物的层,该层表面具有大于10°且小于50°的水静态接触角。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃西勒国际通用光学公司,未经埃西勒国际通用光学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080060032.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top