[发明专利]液浸构件、曝光装置、曝光方法及元件制造方法

权利要求书

1.一种液浸构件，其以曝光用光的光路由液体填满的方式在和可移动的物体之间形成液浸空间；且包含：

第1板，其配置在所述光路周围的至少一部分；

第2板，其配置在所述光路周围的至少一部分，且包含和所述第1板的下表面的至少一部分对向的上表面及所述物体可对向的下表面；及

回收口，其相对于所述光路配置在所述第1板的外侧，所述物体能够和至少一部分对向，回收来自所述第2板的上表面所面对的第1空间及所述第2板的下表面所面对的第2空间的液体的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的液浸构件，其中所述回收口的至少一部分在相对于所述光路的放射方向配置在较所述第2板更外侧。

3.根据权利要求1或2所述的液浸构件，其中所述回收口回收在所述回收口和所述物体之间合流的来自所述第1空间的液体及来自所述第2空间的液体的至少一部分。

4.根据权利要求1至3中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第2板的内侧边缘在相对于所述光路的放射方向配置在较所述第1板更内侧。

5.根据权利要求4所述的液浸构件，其中所述第1板的上表面所面对的空间的液体的至少一部分透过在所述第1板的内侧边缘规定至少一部分的第1开口流动至所述第2板的上表面。

6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第1板的下表面和所述第2板的上表面大致平行。

7.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第2板的上表面的外缘区域在相对于所述光路的放射方向朝向外侧接近所述第1板。

8.根据权利要求1至7中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第1板的下表面和所述第2板的上表面间的第1间隙大于所述第2板的下表面和所述物体的表面间的第2间隙。

9.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第2板的下表面的外形和所述第1板的下表面的外形不同。

10.根据权利要求1至9中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第2板的上表面及下表面的至少一部分对所述液体为亲液性。

11.根据权利要求1至10中任一权利要求所述的液浸构件，其包含以相对于所述第1板配置在特定位置的方式支撑所述第2板的支撑机构。

12.根据权利要求11所述的液浸构件，其中所述支撑机构包含将所述第2板连结在所述第1板的连结构件。

13.根据权利要求1至12中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述光路为从投影光学系统的射出面射出的曝光用光的光路；

所述第1板的下表面和所述第2板的上表面间的第1间隙大于所述第2板的下表面和配置在所述投影光学系统的像面的所述物体的表面间的第2间隙。

14.根据权利要求1至13中任一权利要求所述的液浸构件，其中所述第2板通过驱动系统而移动。

15.根据权利要求13所述的液浸构件，其中所述第2板和所述第1板的下表面大致平行地移动。

16.根据权利要求1至15中任一权利要求所述的液浸构件，其包含配置在所述回收口的多孔构件；

透过所述多孔构件的孔回收液体。

17.根据权利要求1至16中任一权利要求所述的液浸构件，其包含配置在所述第1板的上方且供给液体的供给口。

18.一种曝光装置，其透过液体以曝光用光将基板曝光；且

包含根据权利要求1至17中任一权利要求所述的液浸构件。

19.根据权利要求18所述的曝光装置，其中以在所述液浸构件和所述物体之间形成着液浸空间的状态，所述物体在和所述第2板的下表面大致平行的特定面内移动。

20.根据权利要求19所述的曝光装置，其中移动的所述物体包含所述基板及保持所述基板而移动的基板台的至少一方。

21.一种元件制造方法，其包含如下步骤：

使用根据权利要求18至20中任一权利要求所述的曝光装置将基板曝光；及

将曝光的所述基板显影。