[发明专利]用于借助微波生成等离子体的装置

权利要求书

1.用于借助微波生成等离子体用来对衬底进行CVD涂层的装置，具有反应气体可被输送到的真空箱（2）和具有布置在其中的、与用于耦合输入微波的装置（6）相连接的电导体（3），其特征在于，电导体（3）在其两个端部处分别与用于耦合输入微波的装置（6）相连接，电导体（3）与电压源（7）相连接，用所述电压源（7）可以在电导体（3）和周围的真空箱（2）之间生成电位差，并且电导体（3）相对于用于耦合输入微波的装置（6）电绝缘或脱耦。

2.按照权利要求1的装置，其特征在于，电导体（3）是连接到冷却液容器上的空心的导体。

3.按照权利要求1的或权利要求2的装置，其特征在于，电导体（3）具有棒状的造型。

4.按照权利要求1的或权利要求2的装置，其特征在于，电导体（3）具有弯曲的走向。

5.按照以上权利要求之一的装置，其特征在于，电导体（3）经由穿通滤波器与电压源（7）相连接。

6.按照以上权利要求之一的装置，其特征在于，用于耦合输入微波的装置（6）朝向电导体（3）漏斗状地展开。

7.按照权利要求6的装置，其特征在于，用于耦合输入微波的装置（6）基本上在真空箱（2）之内展开。

8.按照以上权利要求之一的装置，其特征在于，用于耦合输入微波的装置（6）部分地或完全地用介电材料（11）充填。

9.按照以上权利要求之一的装置，其特征在于，用于耦合输入微波的装置（6）具有缝隙形的或槽形的凹口（13，15）。

10.按照权利要求9的装置，其特征在于，在轴向上包围电导体（3）地布置缝隙形的或槽形的凹口（15）。

11.按照以上权利要求之一的装置，其特征在于，电导体（3）相对于周围的真空箱（2）具有负电位或正电位。

12.按照权利要求1至10之一的装置，其特征在于，可以用高频交流电压施加电导体（3）。